等離子清洗器產(chǎn)品及廠家

CPC-Auto在線片式真空等離子清洗機(jī)
cpc-auto在線片式真空等離子清洗機(jī)具有成本較低、容易使用，維護(hù)乃保養(yǎng)費(fèi)用低，環(huán)保等優(yōu)點(diǎn)。適用于芯片粘結(jié)工藝前、引線鍵合和覆晶封裝工藝前的表面處理，與傳統(tǒng)獨(dú)立式的等離子清洗機(jī)相比，在線片式真空等離子清洗機(jī)具有自動(dòng)化程度高、清洗效率高、設(shè)備潔凈度高、適用范圍廣等優(yōu)點(diǎn)，適用于大規(guī)模全自動(dòng)化生產(chǎn)。
更新時(shí)間:2025-10-28
等離子去膠機(jī)
等離子去膠機(jī)，采用電感耦合各向同性（各個(gè)方向）等離子激發(fā)方式，適用于所有的基材及復(fù)雜的幾何構(gòu)形都可以進(jìn)行等離子體去膠。特別適合于大學(xué)，科研院所和微電子、半導(dǎo)體企業(yè)實(shí)驗(yàn)室，對電路板、外延片、芯片、環(huán)氧基樹脂、mems制造過程中犧牲層，干刻或濕刻處理前或后，對基材進(jìn)行聚合物剝離、金屬剝離、掩膜材料等光刻膠去除，以及晶圓表面預(yù)處理等。
更新時(shí)間:2025-10-28
CPC-F等離子清洗機(jī)
等離子清洗設(shè)備廣泛應(yīng)用于材料學(xué)、微電子、半導(dǎo)體、新能源、線路板、led、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域，主要用于材料表面進(jìn)行清洗、改性、刻蝕等目的
更新時(shí)間:2025-10-28
CPC-FM等離子清洗機(jī)
等離子清洗設(shè)備廣泛應(yīng)用于材料學(xué)、微電子、半導(dǎo)體、新能源、線路板、led、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域，主要用于材料表面進(jìn)行清洗、改性、刻蝕等目的。
更新時(shí)間:2025-10-28
CPC-FMplus等離子清洗機(jī)
等離子清洗機(jī)（plasma cleaner）也叫等離子清潔機(jī)、等離子表面處理儀，是一種低能耗、清潔、環(huán)保、處理均勻的的高科技技術(shù)，它利用等離子體來達(dá)到常規(guī)清洗方法無法達(dá)到的效果。
更新時(shí)間:2025-10-28
CPC-10等離子清洗機(jī)
等離子清洗能實(shí)現(xiàn)清洗、涂覆、接枝、刻蝕四大功能，改變材料表面性能！該設(shè)備具有較大的腔體尺寸和有效樣品處理面積，使用成本低,性價(jià)比高，處理快速高效，特別適合于大學(xué)，科研院所和光電企業(yè)實(shí)驗(yàn)室小批量中試生產(chǎn)。
更新時(shí)間:2025-10-28
CPC-10M等離子清洗機(jī)
等離子清洗機(jī)（plasma cleaning）能實(shí)現(xiàn)清洗、涂覆、接枝、刻蝕四大功能，改變材料表面性能！該設(shè)備具有較大的腔體尺寸和有效樣品處理面積，使用成本低,性價(jià)比高，處理快速高效，特別適合于大學(xué)，科研院所和光電企業(yè)實(shí)驗(yàn)室小批量中試生產(chǎn)。
更新時(shí)間:2025-10-28
CPC-G等離子清洗機(jī)
等離子清洗機(jī)（plasma cleaning）能實(shí)現(xiàn)清洗、涂覆、接枝、刻蝕四大功能，改變材料表面性能！該設(shè)備具有較大的腔體尺寸和有效樣品處理面積，使用成本低,性價(jià)比高，處理快速高效，特別適合于大學(xué)，科研院所和光電企業(yè)實(shí)驗(yàn)室小批量中試生產(chǎn)。
更新時(shí)間:2025-10-28
CPCP3粉體等離子清洗機(jī)
專為處理粉體如粉末、顆粒狀材料樣品而設(shè)計(jì)的粉體專用等離子清洗機(jī)，可以高效率地處理微細(xì)的甚至分子級別的超細(xì)粉體材料，改變傳統(tǒng)真空等離子清洗機(jī)無法處理粉體樣品的問題。同時(shí)可實(shí)現(xiàn)常規(guī)等離子清洗。
更新時(shí)間:2025-10-28
手套箱專用等離子清洗機(jī)
vgb系列手套箱專用等離子清洗設(shè)備，優(yōu)化的腔體結(jié)構(gòu)及合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)更適合手套箱內(nèi)使用。安裝簡單方便，性能穩(wěn)定，實(shí)用性強(qiáng)，容易維護(hù)。
更新時(shí)間:2025-10-28
中試生產(chǎn)型等離子清洗機(jī)
cpc系列等離子清洗機(jī)是為中試客戶和工業(yè)級客戶而設(shè)計(jì)的等離子體表面處理設(shè)備。配置豐富，且真空腔體里可分層，適合大多數(shù)生產(chǎn)場景清洗，活化、刻蝕等應(yīng)用。設(shè)備可在嚴(yán)苛環(huán)境下穩(wěn)定運(yùn)行，產(chǎn)品性能穩(wěn)定，樣品處理重復(fù)性、一致性好。
更新時(shí)間:2025-10-28
精密型等離子清洗機(jī) 小型 臺式 研發(fā)專用 FEMTO 德國原裝進(jìn)口 DIENER 2.2L
等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層的功能。可以應(yīng)用于多種領(lǐng)域。
更新時(shí)間:2025-10-28
精密型等離子清洗機(jī) 研發(fā)專用 PICO 德國原裝進(jìn)口 DIENER 5L-8L
等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層的功能。可以應(yīng)用于多種領(lǐng)域。
更新時(shí)間:2025-10-28
精密型等離子清洗機(jī) 小型生產(chǎn) NANO 德國原裝進(jìn)口 DIENER 18L-24L
等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層的功能。可以應(yīng)用于多種領(lǐng)域。
更新時(shí)間:2025-10-28
德國原裝進(jìn)口 等離子清洗機(jī) DIENER TETRA30 30-50L 清洗/活化/蝕刻/涂層
tetra 30等離子系統(tǒng)能夠以不同的形式進(jìn)行整合，可以滿足生產(chǎn)企業(yè)需求，也能夠按照客戶要求進(jìn)行定制。
更新時(shí)間:2025-10-28
常壓等離子清洗機(jī) 德國原裝進(jìn)口 DIENER plasmabeam 大氣等離子清洗機(jī)
對于常壓等離子技術(shù)，等離子的生成是由于氣體在大氣壓力下通過高電壓而被激發(fā)。等離子由高壓氣體驅(qū)動(dòng)從噴嘴中一同噴出。其等離子效應(yīng)可以分為以下兩種：?表面激活及精密清洗 通過等離子束中所攜帶的反應(yīng)粒子實(shí)現(xiàn)?此外，松散附著于材料表面的微塵將由高壓加速的激活氣流帶走
更新時(shí)間:2025-10-28
常壓等離子清洗機(jī) 德國原裝進(jìn)口 DIENER plasmabeam DUO 大氣等離子清洗機(jī)
對于常壓等離子技術(shù)，等離子的生成是由于氣體在大氣壓力下通過高電壓而被激發(fā)。等離子由高壓氣體驅(qū)動(dòng)從噴嘴中一同噴出。其等離子效應(yīng)可以分為以下兩種：?表面激活及精密清洗 通過等離子束中所攜帶的反應(yīng)粒子實(shí)現(xiàn)?此外，松散附著于材料表面的微塵將由高壓加速的激活氣流帶走
更新時(shí)間:2025-10-28
等離子清洗機(jī) 2.6L 小型 高性價(jià)比 德國原裝進(jìn)口 DIENER ZEPTO
等離子可以應(yīng)用于材料接合或精確改變材料表面屬性。通過這項(xiàng)前瞻性技術(shù)可以改變幾乎所有的材料表面。
更新時(shí)間:2025-10-28
等離子清洗機(jī) 10.5L 小型 高性價(jià)比 德國原裝進(jìn)口 DIENER ATTO
等離子可以應(yīng)用于材料接合或精確改變材料表面屬性。通過這項(xiàng)前瞻性技術(shù)可以改變幾乎所有的材料表面。等離子體技術(shù)可應(yīng)用于不同材料，例如：玻璃、金屬、塑料制品、紡織品和陶瓷制品。
更新時(shí)間:2025-10-28
輝光放電儀QuickGlow
quickglow是經(jīng)濟(jì)實(shí)惠、易于使用、放電穩(wěn)定的一款國產(chǎn)輝光放電儀，其常見的應(yīng)用之一是用于tem載網(wǎng)表面的親水化處理
更新時(shí)間:2025-10-28
測試真空泵
hty-30a型真空泵是設(shè)計(jì)用于微生物檢測的專用真空泵，它具有外形小巧，操作簡單，易于清潔維護(hù)等特點(diǎn)。它既可與微生物限度過濾支架配套hty-30a真空泵 jmr-y30a型真空泵是設(shè)計(jì)用于微生物檢測的專用真空泵，它具有外形小巧，操作簡單，易于清潔維護(hù)等特點(diǎn)。它既可與微生物限度過濾支架配套，采用負(fù)壓抽濾方式進(jìn)行微生物限度檢查，也可單作為抽氣設(shè)備使
更新時(shí)間:2025-10-28
德國 PVA TePla等離子清洗系統(tǒng)
德國 pva tepla等離子清洗系統(tǒng)80 plus hs, giga690,10n optimus100,80 plus，有別于傳統(tǒng)的射頻等離子(物理)清洗方式，微波等離子清洗可以清洗到樣品的每一個(gè)部位，實(shí)現(xiàn)清洗過程的自由基不會被障礙物所阻擋，并且不會改變表面的粗糙度。
更新時(shí)間:2025-10-27
等離子清洗機(jī)
經(jīng)濟(jì)型、通過等離子化氣體的活性作用對處理對象表面進(jìn)行改質(zhì)、清洗。
更新時(shí)間:2025-10-27
昌吉SYD-265-3自動(dòng)毛細(xì)管粘度清洗器
syd-265-3型自動(dòng)毛細(xì)管粘度計(jì)清洗器是專為清洗石油產(chǎn)品試驗(yàn)用毛細(xì)管粘度計(jì)而設(shè)計(jì)制造的自動(dòng)清洗器。本儀器可用來清洗凡具有三端口的品氏、烏氏、芬氏、逆流等玻璃毛細(xì)管粘度計(jì)。尤其適合于清洗檢測高粘度重油使用的毛細(xì)管粘度計(jì)，改變了靠傳統(tǒng)手工清洗、費(fèi)時(shí)費(fèi)力且不易洗凈的現(xiàn)狀。 本儀器采用單片機(jī)控制技術(shù)，程序控制，自動(dòng)清洗，使用方便，操作簡單，消耗溶劑油少，清洗效率高。可廣泛應(yīng)用于石油產(chǎn)品生產(chǎn)企業(yè)、使用單位、各相關(guān)院校、科研院所實(shí)驗(yàn)室等使用各類毛細(xì)管粘度計(jì)的場合。
更新時(shí)間:2025-10-27
SYD-0620-3型 自動(dòng)瀝青毛細(xì)管粘度計(jì)清洗器
syd-0620-3型自動(dòng)瀝青毛細(xì)管粘度計(jì)清洗器，是專為瀝青動(dòng)力粘度試驗(yàn)器的毛細(xì)管粘度計(jì)而設(shè)計(jì)制造的自動(dòng)清洗器。本儀器也可用來清洗凡具有兩端口的逆流等玻璃毛細(xì)管粘度計(jì)，尤其適合于清洗檢測高粘度重油使用的毛細(xì)管粘度計(jì)，改變了靠傳統(tǒng)手工清洗、費(fèi)時(shí)費(fèi)力且不易洗凈的現(xiàn)狀。
更新時(shí)間:2025-10-27
等離子樣品清洗設(shè)備Evactron E50
等離子樣品清洗設(shè)備evactron e50可以安裝在電鏡交換倉或樣品室內(nèi)，利用等離子體進(jìn)行清洗，也可以用紫外線進(jìn)行清洗，無需切換到低真空模式即可使用，射頻功率高達(dá)50w，清洗效率高。
更新時(shí)間:2025-10-27
SHCS06 運(yùn)動(dòng)粘度毛細(xì)管清洗器
shcs06運(yùn)動(dòng)粘度毛細(xì)管清洗器可用來清洗毛細(xì)管粘度計(jì)，以及量杯、量筒、燒瓶、蒸餾瓶等各種玻璃器皿。毛細(xì)管粘度計(jì)清洗器使用方便，操作簡單，消耗溶劑油少，清洗效率高。可廣泛應(yīng)用于石油產(chǎn)品生產(chǎn)企業(yè)、使用單位、各相關(guān)院校、科研院所實(shí)驗(yàn)室等使用各類毛細(xì)管粘度計(jì)的場合。本儀器還可用作各實(shí)驗(yàn)室其它試驗(yàn)的輔助吸濾裝置，如機(jī)械雜質(zhì)、不溶物
更新時(shí)間:2025-10-27
NPC-3500 (A) 全自動(dòng)等離子清洗機(jī)去膠機(jī)
npc-3500（a）全自動(dòng)等離子清洗/去膠機(jī)概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨(dú)一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-10-27
SWC-4000 (M) 兆聲掩模板清洗機(jī)
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-10-27
SWC-3000 (D) 兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-10-27
NPC-4000 (A) 全自動(dòng)等離子清洗機(jī)去膠機(jī)
npc-4000（a）全自動(dòng)等離子清洗/去膠機(jī)概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨(dú)一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-10-27
NIE-3500 (MC) 離子束清洗系統(tǒng)
nie-3500 (mc)離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述：該系統(tǒng)為計(jì)算機(jī)全自動(dòng)實(shí)現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強(qiáng)大、自動(dòng)化程度高、模塊化設(shè)計(jì)易于維護(hù)、低成本的優(yōu)勢。所有核心組件均為國際知名品牌。
更新時(shí)間:2025-10-27
NPC-3000 等離子清洗機(jī)去膠機(jī)
npc-3000等離子清洗/去膠機(jī)概述：nano-master 等離子灰化和清洗系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨(dú)一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用
更新時(shí)間:2025-10-27
NIE-3000 (C) 離子束清洗系統(tǒng)
nie-3000 (c) 離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述：該系統(tǒng)為手動(dòng)放片取片，但通過計(jì)算機(jī)全自動(dòng)實(shí)現(xiàn)工藝控制的臺式離子束刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強(qiáng)大、自動(dòng)化程度高、模塊化設(shè)計(jì)易于維護(hù)、低成本的優(yōu)勢。該系統(tǒng)所配套的所有核心組件均為國際知名品牌。
更新時(shí)間:2025-10-27
NIE-3500 (AC) 全自動(dòng)離子束清洗系統(tǒng)
nie-3500 (ac)全自動(dòng)離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述：該系統(tǒng)為全自動(dòng)上下載片，并且通過計(jì)算機(jī)全自動(dòng)實(shí)現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強(qiáng)大、自動(dòng)化程度高、模塊化設(shè)計(jì)易于維護(hù)、低成本的優(yōu)勢。該系統(tǒng)所配套的所有核心組件均為國際知名品牌。
更新時(shí)間:2025-10-27
NPE-4000 (M) 等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
npe-4000（m） pecvd等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)概述：nano-master pecvd系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的sio2, si3n4, 或dlc薄膜到最大可達(dá)12” 直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產(chǎn)生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢.樣品臺可以通過rf或脈沖dc產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機(jī)械泵，腔體可以達(dá)到低至10-7 torr的真空。標(biāo)準(zhǔn)配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個(gè)mfc.帶有獨(dú)一無二氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求，無論是等離子強(qiáng)度、均勻度，還是要分別激活某些活性組份，這樣系統(tǒng)可以覆蓋最廣的可能性來獲得各種沉積參數(shù)。
更新時(shí)間:2025-10-27
SWC-4000 (C) 兆聲清洗系統(tǒng)
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-10-27
SWC-3000 (M) 兆聲掩模板清洗機(jī)
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-10-27
LSC-4000 (C) 兆聲大基片清洗系統(tǒng)
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-10-27
NPC-3500 (M) 等離子清洗機(jī)
npc-3500（m）等離子清洗/去膠機(jī)概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨(dú)一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-10-27
NPE-4000 (A) 全自動(dòng)PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
npe-4000（a）全自動(dòng)pecvd等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)概述：nano-master pecvd系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的sio2, si3n4, 或dlc薄膜到最大可達(dá)6” 直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產(chǎn)生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢.樣品臺可以通過rf或脈沖dc產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機(jī)械泵，腔體可以達(dá)到低至10-7 torr的真空。標(biāo)準(zhǔn)配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個(gè)mfc.帶有獨(dú)一無二氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求，無論是等離子強(qiáng)度、均勻度，還是要分別激活某些活性組份，這樣系統(tǒng)可以覆蓋最廣的可能性來獲得各種沉積參數(shù)。
更新時(shí)間:2025-10-27
LSC-5000 (AD) 全自動(dòng)兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-10-27
NPC-4000 (M) 等離子清洗機(jī)
npc-4000（m）等離子清洗機(jī)概述：nano-master 等離子刻蝕和清洗系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨(dú)一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-10-27
Plasma Preen 微波等離子清洗機(jī)
ppc系列等離子清洗機(jī)是mycro美國原裝進(jìn)口的等離子清洗機(jī)，這系列的等離子清洗機(jī)，作為蝕刻系統(tǒng)，該系列等離子清洗機(jī)目前有三種類型，都集成了相應(yīng)的的數(shù)字控制功能，并且都有一個(gè)額外的模擬電源控制功能從而提供了一個(gè)更廣的等離子功率范圍。ppc的第二代產(chǎn)品提供水冷卻裝置，可以有效吸收等處理氣體等離子化所產(chǎn)生的熱量。
更新時(shí)間:2025-10-27
供應(yīng)PPC微波等離子清洗機(jī)
mycro邁可諾公司提供原裝進(jìn)口等離子清洗機(jī)/表面處理儀/ppc微波等離子清洗機(jī)，請您放心選購！ppc862plasma-preenii862ppc973plasma-preenii973等離子清洗機(jī)又稱等離子體清洗機(jī)，臺式微波等離子清洗機(jī)，ppc等離子清洗機(jī)，水冷式ppe等離子蝕刻機(jī)，圓筒型ppc等離子清洗機(jī)，plasma-preen等離子清洗
更新時(shí)間:2025-10-23
桌面實(shí)驗(yàn)室等離子清洗機(jī)
等離子清洗機(jī)pt1000plasmatreatmentequipment等離子清洗機(jī)是一款門針對科研院所研制的小批量樣品表面處理設(shè)備，利用真空環(huán)境產(chǎn)生等離子體去處理樣品的表面
更新時(shí)間:2025-10-23
桌面實(shí)驗(yàn)室真空等離子清洗機(jī)
等離子清洗機(jī)是一款門針對科研院所研制的小批量樣品表面處理設(shè)備，利用真空環(huán)境產(chǎn)生等離子體去處理樣品的表面，達(dá)到常規(guī)清洗方法無法達(dá)到的效果。
更新時(shí)間:2025-10-23
等離子清潔儀基本型材料表面處理儀
來自美國pie scientific出品的等離子清潔儀基本型材料表面處理儀，可以用來清潔納米樣品、蝕刻光刻膠、激活聚合物表面功能團(tuán)、獲得親水或疏水性，增強(qiáng)粘合強(qiáng)度以及可印染性、促進(jìn)醫(yī)學(xué)器件生物相容性。
更新時(shí)間:2025-10-23
美國PIE等離子清洗機(jī)
美國pie等離子清洗機(jī)tergeo系列臺式全自動(dòng)等離子清潔儀具有清潔、灰化、刻蝕等功能，可用來清潔納米樣品，去除光刻膠，清潔晶圓和集成電路鍵合焊盤，進(jìn)行煤和有機(jī)物的灰化，激活聚合物、金屬和陶瓷表面官能團(tuán)，獲得表面親水性，提高鍵合強(qiáng)度和可印刷性，促進(jìn)醫(yī)療器械生物相容性。
更新時(shí)間:2025-10-23

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