燃燒爐產(chǎn)品及廠家

GHA 12/75/600/301 水平/垂直單段管式爐
水平/垂直單段管式爐的主要特點：♦ 最高工作溫度1200℃♦ 工作管外徑20-170mm♦ 加熱長度300、450、600、750、900、1050和1200mm♦ 可換工作管適配套配合zui大工作管外徑170mm♦ 使用壽命長，升溫速率快，電熱絲安裝牢固，真空成型的保溫材料♦ gha 底座含控制器，gva 帶2m電線的獨立控制器♦ pid301 標(biāo)準(zhǔn)控制器，單段程序控溫♦ 延遲啟動和定時器功能
更新時間:2025-10-27
LTH 11/49 LTH 頂部升降式箱式爐
diams; zui高工作溫度1100℃和1200℃♦ 爐腔體積3.5、31和49l♦ 高效率加熱的電阻絲和優(yōu)質(zhì)保溫材料，確？焖偕郎♦ 分體式爐腔使樣品快速冷卻♦ 電動升降爐膛 （3.5l爐體可在5秒內(nèi)升降）♦ 爐膛可提升至zui大高度以方便裝入樣品♦ 環(huán)繞式加熱內(nèi)膛確保卓越的溫度均勻性♦ 裝樣時，加熱元件關(guān)閉并全部縮進♦ 3.5、31 和49l型號配2m連接管連接單獨控制器
更新時間:2025-10-27
HTF 18/27 HTF 高溫實驗室箱式爐
zui高工作溫度1700°c和1800°c爐膛體積4 ~ 27l優(yōu)越的硅鉬棒加熱元件的性能垂直上開門，確保灼熱的爐門遠離操作者垂直上開門，確保灼熱的爐門遠離操作者爐膛采用優(yōu)質(zhì)耐火磚和低能耗輕質(zhì)保溫材料可編程3216p1 控制器
更新時間:2025-10-27
GHC 12/1200/3216P1 水平/垂直三段管式爐
♦ 最高工作溫度1200℃♦ 三溫區(qū)加熱確保卓越的溫度均勻性，每個溫區(qū)配有一個獨立控制器♦ 自動調(diào)節(jié)兩端溫區(qū)功率補償熱損失♦ 比單段式管式爐更優(yōu)越的均溫長度♦ 加熱長度450、600、750、900、1050和1380mm♦ 可換工作管適配套zui大可配工作管外徑170mm♦ 三個溫區(qū)可統(tǒng)一設(shè)定溫度點♦ ghc爐腔水平安裝于控制盒上♦ pid程序控制，可設(shè)定單段加熱，有定時功能
更新時間:2025-10-27
TVS 12/600/3216P1 三段開合式管式爐
　tvs 三段開合式管式爐的主要特點：　　♦ 最高工作溫度1200℃　　♦ 可配工作管zui大外徑110mm　　♦ 加熱長度600和900mm　　♦ 帶2米電線的獨立控制器　　♦ 爐膛可開合，適用于各種工作管或固定于試驗臺的大型工件　　♦ 使用壽命長，升溫速率快，電熱絲安裝牢固，真空成型的保溫材料　　♦ pid301標(biāo)準(zhǔn)控制器串聯(lián)兩個單段2132控制器　　♦ 延遲啟動和定時器功能
更新時間:2025-10-27
STF 15/180/3216P1 STF 高溫單段管式爐
stf系列管式爐zui高工作溫度為1500°c或1600°c。該系列管式爐沒有內(nèi)置工作管，必須另配相應(yīng)工作管。工作管長度基于具體應(yīng)用，比如氣氛或真空應(yīng)用！
更新時間:2025-10-27
PVT 18/125/350 PVT 垂直高溫管式爐
pvt 垂直高溫管式爐的主要特點：　　♦ zui高工作溫度1800℃　　♦ 工作管zui大外徑60、90、115和140mm　　♦ 加熱長度200、350mm　　♦ 垂直結(jié)構(gòu)，標(biāo)配l型支架　　♦ 帶2m電線的獨立控制器　　♦ pid3216p1控制器，8段程序控溫　　♦ 過溫保護
更新時間:2025-10-27
HVTT高空管式爐 HVTT 高溫真空管式爐
hvtt高真空渦輪分子泵管式爐有三種標(biāo)準(zhǔn)尺寸，多種管長度和外徑可供選擇。可根據(jù)需求額外訂購配件如自動控制閥，氣體吹掃，填料系統(tǒng)，渦輪分子真空泵和低真空泵協(xié)調(diào)工作控制器等，更高工作溫度1500°c配置也可提供。
更新時間:2025-10-27
HTR 11/75 HTR旋轉(zhuǎn)反應(yīng)爐
旋轉(zhuǎn)反應(yīng)爐結(jié)合了流化床爐和旋轉(zhuǎn)爐的各種優(yōu)點。既可提供用戶所需氣氛又可同時攪動粉末固體，并且提高反應(yīng)效率，避免使用靜態(tài)通氣工作管和傳統(tǒng)馬弗爐時反應(yīng)時間長的問題。
更新時間:2025-10-27
LHTG/LHTM/LHTW Carbolite&Gero （卡博萊特&蓋羅）實驗室高溫爐LHTG/LHTM/LH
lhtg/lhtm/lhtw 系列實驗室爐，適用于各種類型真空和保護氣氛的熱處理工藝過程。更可用于 1×10-6 mbar 的高真空或純氫氣氛。
更新時間:2025-10-27
HTK Carbolite&Gero（卡博萊特&蓋羅）高溫箱式爐HTK
卡博萊特●蓋羅的htk系列包括三款設(shè)備共有六種尺寸較小的尺寸為8-25升。常應(yīng)用于實驗室研發(fā)。而80-600升容積的型號更多為制造和生產(chǎn)服務(wù)，也可根據(jù)用戶要求定制不同的尺寸和容積。
更新時間:2025-10-27
GLO Carbolite&Gero（卡博萊特&蓋羅）GLO退火爐
glo系列退火爐是一款真空氣密型的罐式爐。此款爐型是專為那些需要在爐膛內(nèi)維持一個穩(wěn)定的保護氣氛環(huán)境下進行的熱處理工藝而設(shè)計的。標(biāo)準(zhǔn)爐型尺寸設(shè)備zui高溫度有600/900/1100℃三個不同系列，也可用于真空下zui高溫度至600℃的熱處理工藝。
更新時間:2025-10-27
HBO Carbolite&Gero（卡博萊特&蓋羅）HBO真空罩式金屬爐
金屬罩式爐（hbo）沒有纖維隔熱保溫材料，特別適合高真空度和高純度氣氛應(yīng)用。爐子的結(jié)構(gòu)材料特別適合高溫低壓應(yīng)用，保證了加熱元件和隔熱保溫材料在高溫下的安全性。防輻射隔熱屏蔽塞和加熱元件是同一材質(zhì)，沒有使用纖維保溫材料。hbo罩式爐有兩個系列：zui高加熱溫度1600的鉬金屬爐和zui高加熱溫度2200°c的鎢金屬爐。
更新時間:2025-10-27
CDF、CDR CDF 、CDR 牙科氧化鋯燒結(jié)爐
cdf——牙科燒結(jié)爐特點：cdf——牙科燒結(jié)爐• 可供選擇的運行單相持續(xù)電流提供13a/16a• 無污染硅碳棒加熱提供卓越的溫度均勻性• pid3216p1控制器，8段程序控溫• 24小時操作時，適用于整夜操作的定時器• 卓越的溫度均勻性及精確地控制• 配有陶瓷燒結(jié)托盤及200gø2mm的用于樣品支撐的氧化鋯陶瓷珠cdr——牙科快速升溫?zé)Y(jié)爐
更新時間:2025-10-27
OTF-1200X-S-DVD小型坩堝移動管式爐
產(chǎn)品簡介：otf-1200x-s-dvd是一款小型坩堝移動管式爐（通過磁鐵推動坩堝移動），其爐管直徑為50mm,爐體工作溫度為≤1200℃，此款設(shè)備設(shè)計針對于直接蒸發(fā)沉積或快速熱處理實驗，用于二維材料的生長。
更新時間:2025-10-27
布里奇曼單晶生長爐
布里奇曼單晶生長爐
更新時間:2025-10-27
1700℃立式淬火爐GSL-1700X-80VTQ
1700℃立式淬火爐gsl-1700x-80vtq采用直徑80mm的氧化鋁爐管、下置淬冷水箱結(jié)構(gòu)，專為淬火樣品能從高溫狀態(tài)進入冷水或油等淬冷介質(zhì)中快速冷卻而設(shè)計，以研究材料階段性過渡和微觀結(jié)構(gòu)。
更新時間:2025-10-27
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"真空立式淬火爐otf-1200x-4-vtq是一款立式可開啟真空管式淬火爐，配有一個密封的液體容器用于樣品淬火，樣品可從最高溫度1200℃環(huán)境到冰水或冷油中，可用于研究材料相轉(zhuǎn)變和微結(jié)構(gòu)性能。
更新時間:2025-10-27
帶3路浮子混氣RTP管式爐RTP-1000-LV3F
帶3路浮子混氣rtp管式爐rtp-1000-lv3f是專為半導(dǎo)體基片、太陽能電池及其它樣品（尺寸可達3"）的退火而設(shè)計，配有3路流量計和機械泵。本機采用 9kw的紅外燈進行加熱，最快升溫速度可達 100℃/s，配有rs485 接口，可以通
更新時間:2025-10-27
小型1000℃RTP爐OTF-1200X-4-RTP
小型1000℃rtp爐otf-1200x-4-rtp 是一款精巧型快速熱處理管式爐，配有4"石英管和真空法蘭，是專為半導(dǎo)體或太陽能電池基片（最大3"）的退火而設(shè)計。本機采用10kw紅外燈管加熱，最快升溫速度為 50℃/s，設(shè)有30段溫度控制，精度為±1℃。此外，通過rs485口和控制軟件可在計算機上實現(xiàn)實時控制和溫度曲線顯示。
更新時間:2025-10-27
可滑動RTP爐OTF-1200X-4-RTP-SL
0x-4-rtp-sl是一種快速熱處理爐，采用紅外燈加熱和移動爐體快速冷卻，可獲得最高升溫速率為100°c/s 、降溫速率為5°c/s。
更新時間:2025-10-27
MSM20-8（非自耗式）微型金屬熔煉吸鑄爐
產(chǎn)品簡介：msm20-8（非自耗式）微型金屬熔煉吸鑄爐是一款小型的電弧熔煉爐，可在不破壞氣體保護氣氛的條件下翻轉(zhuǎn)合金錠進行多次熔煉，且可以同時制備多個樣品（少于7個），是高等院校、科研院所制備
更新時間:2025-10-27
1100℃高壓爐OTF-1200X-60UV
1100℃高壓爐otf-1200x-hp-55是開啟式高溫高壓管式爐，爐管采用 ss310s鎳基合金鋼制作而成，最高壓力高達20mpa，最高溫度可達1100℃，并可通入多種氧化或惰性保護氣體，是用于高壓制備新材料，以及作為小型熱等靜壓處理合金樣品的理想設(shè)備。
更新時間:2025-10-27
800℃雙溫區(qū)高壓爐OTF-1200X-II-HVHP-80
800℃雙溫區(qū)高壓爐otf-1200x-ii-hvhp-80是高溫高壓管式爐，爐管采用 ss310s鎳基合金鋼制作而成，兩端配有法蘭和閥門，專為在105 psi高壓下使用，可在通入氧化或惰性氣體的氣氛下，處理特殊的化合物。本機采用pid方式進行控
更新時間:2025-10-27
800℃高壓爐OTF-1200X-HVHP-80
800℃高壓爐otf-1200x-hvhp-80是高溫高壓管式爐，爐管采用 ss310s鎳基合金鋼制作而成，兩端配有法蘭和閥門，專為在105 psi高壓下使用，可在通入氧化或惰性氣體的氣氛下，處理特殊的化合物。
更新時間:2025-10-27
生長納米線CVD爐OTF-1200X-4-NW
生長納米線cvd爐otf-1200x-4-nw是一種緊湊型cvd爐，專為生長各種納米線而設(shè)計，基片最大3″。在法蘭的左側(cè)裝有一個小加熱器，可對輸入的氣體、液體、固體進行預(yù)加熱后進入 cvd 爐進行納米線的生長。其可滑動的樣品架使操作更為簡單。
更新時間:2025-10-27
1200℃雙管三溫區(qū)管式OTF-1200X-III-D5-4
200℃雙管三溫區(qū)管式爐（石墨烯生長）otf-1200x-iii-d5-4最高工作溫度可以達到1200℃，專門針對于用cvd方法在金屬箔上生長薄膜物質(zhì)，如石墨烯、太陽能電池的電極材料和其他電池電極材料等。
更新時間:2025-10-27
1400℃小型管式爐GSL-1400X
400℃小型管式爐gsl-1400x是小型高溫管式爐，采用高純氧化鋁剛玉爐管和硅碳棒加熱元件，設(shè)有兩個真密封法蘭，控制系統(tǒng)采用高精度可控硅移相觸發(fā)控制，其控溫精度為±1℃，可設(shè)置30段升降溫程序，最高溫度可達1400℃。
更新時間:2025-10-27
1600℃雙溫區(qū)高溫真空管式爐GSL-1600X-Ⅱ
1600℃雙溫區(qū)高溫真空管式爐gsl-1600x-ⅱ每個加熱區(qū)域長300mm，由30段智能溫度調(diào)節(jié)儀進行控溫，采用硅鉬棒加熱元件溫度可達1600℃，采用硅碳棒加熱元件溫度可達1400℃，通過調(diào)節(jié)兩個溫區(qū)的控溫程序使?fàn)t管內(nèi)溫度場形成一溫度梯度。本機可用于cvd或pvd方法來生長納米材料和制作各種薄膜？販貎x表操作視頻
更新時間:2025-10-27
1500℃真空立式淬火爐OTF-1500X-80-VTQ
1500℃真空立式淬火爐otf-1500x-80-vtq一款是立式可開啟真空管式淬火爐，配有一個密封的液體容器用于樣品淬火，樣品可從最高溫度1500℃環(huán)境中快速落入冰水或冷油中，可用于研究材料相轉(zhuǎn)變和微結(jié)構(gòu)性能。
更新時間:2025-10-27
1200℃五溫區(qū)開啟式管式爐OTF-1200X-V
1200℃五溫區(qū)開啟式管式爐otf-1200x-v每個溫區(qū)分別由獨立的溫控系統(tǒng)控制，通過調(diào)節(jié)各個溫區(qū)的溫度，可以在加熱區(qū)內(nèi)形成四段溫度梯度，或形成較長的恒溫區(qū)域。本機用于高等院校、科研院所、工礦企業(yè)等實驗或小批量生產(chǎn)，主要針對電子陶瓷的預(yù)燒、燒結(jié)、鍍膜、高溫?zé)峤獾蜏爻练e（cvd）等工藝。具有控溫精度高，保溫效果好，溫度范圍大，溫度均勻性高，溫區(qū)多，可通氣氛抽真空及安全可靠、操作簡單等特點。
更新時間:2025-10-27
1200℃三溫區(qū)開啟式管式爐OTF-1200X-Ⅲ
1200℃三溫區(qū)開啟式管式爐otf-1200x-ⅲ每個溫區(qū)分別由獨立的溫控系統(tǒng)控制，具有控溫精度高，保溫效果好，溫度范圍大，溫度均勻性高，溫區(qū)多等特點。本機可通氣氛抽真空，操作簡單，安全可靠。
更新時間:2025-10-27

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