全息納米光刻圖案化平臺
HOLITH界面光刻裝置使用兩束干涉激光在光界面上形成周 期性光柵和點/孔圖案。 HOLITH納米成像系統(tǒng)具有新型力 學,光學和電學設計,可在200nm-2μm的周期性范圍 更多詳細高分辨率納米壓印模板
采用獨創(chuàng)制造工藝,可把平面納米壓印拓展到任意曲面。標準模板分為三類:Quartz Molds, Silicon Molds, Polymer Molds of 2"、3"、4"。適用于Obducat, 更多詳細納米壓印膠
公司擁有齊全的納米系列壓印膠材料,熱壓型納米壓印膠、熱塑型納米壓印膠、紫外光固化型納米壓印膠、紫外光固化納米壓印和光刻兩用膠、舉離型傳遞層材料、刻蝕型傳遞層材料、各種與納米壓印技術相關的化學藥品,如模 更多詳細Imprint Nano納米壓印
納米壓印的技術與工藝特點,獨創(chuàng)性地設計和制備工作于低真空環(huán)境下,結合正負壓可控調(diào)節(jié)并利用壓縮空氣作為壓印驅(qū)動力的,通過壓力傳導裝置、緩沖與勻壓、壓力調(diào)節(jié)控制裝置等手段實現(xiàn)平穩(wěn)可靠可控的壓印過程,借助于 更多詳細