全新的易于學(xué)習(xí)的界面可幫助您快速掌握新信息，是各種應(yīng)用 的理想選擇。Phenom XL G2 升為全面屏成像，平均成像時(shí)間僅為 40 ，比市場上其他臺式電鏡的速度快 5 倍之多。系統(tǒng)可對大 100 x 100mm 的樣品進(jìn)行分析，8nm 的分辨率為分析提供更多的細(xì)節(jié)。利設(shè)計(jì)的放氣/樣品裝載系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)全 快的放氣/裝載速度，并獲得大的樣品吞吐效率。

產(chǎn)品性能

 

Phenom XL 是一款使用高亮度 CeB6 燈絲的大樣品室臺式掃描電鏡。大樣品直徑為 100mm，放大倍數(shù) 200,000 倍以下， Phenom XL 是您正確的選擇。在繼承飛納電鏡 15 抽真空成像、全自動(dòng)化操作、直接觀測絕緣體、防震設(shè)計(jì)等優(yōu)點(diǎn)的基礎(chǔ)上，分辨率可以和普通大型鎢燈絲電鏡媲美，后期被拓展性很強(qiáng)。

產(chǎn)品參數(shù)

光學(xué)顯微鏡：放大 3-19 倍

電子顯微鏡：200,000 倍

探測器：高靈敏度四分割背散射電子探測器

燈絲材料：1,500 小時(shí) CeB6 燈絲

分辨率：優(yōu)于 8 nm

放置環(huán)境：采用業(yè)防震設(shè)計(jì)，可擺放于普通實(shí)驗(yàn)室或辦公室、廠房

加速電壓：4.8kV-20.5kV 連續(xù)可調(diào)

抽真空時(shí)間：小于 30 

能譜儀：可選配能譜儀

 

Phenom XL 大樣品室卓越版可選配所有的拓展功能軟件選件，如 3D 粗糙度重建，纖維統(tǒng)計(jì)分析測量系統(tǒng)，顆粒統(tǒng)計(jì)分析測量系統(tǒng)，孔徑統(tǒng)計(jì)分析測量系統(tǒng)。

  

全自動(dòng)顯微平臺Phenom XL + 拉伸臺 

拉伸臺是飛納臺式掃描電鏡 Phenom XL 一項(xiàng)重大拓展。拉伸臺是一種動(dòng)態(tài)觀察和分析材料微觀變形形貌及斷裂機(jī)制的手段,在材料科學(xué)沿研究中發(fā)揮了重要作用。掃描電鏡原位拉伸臺的大特點(diǎn)是,在進(jìn)行應(yīng)力—應(yīng)變力學(xué)定量測試的同時(shí), 利用掃描電鏡的強(qiáng)大的景深、高空間分辨和分析功能，在微觀層面上對材料的力學(xué)性能進(jìn)行動(dòng)態(tài)研究。拉伸臺可以為很多材料做拉伸測試，如金屬材料（研究韌斷過程、應(yīng)力誘發(fā)相變及塑性變形），高分子材料，陶瓷材料等。飛納臺式掃描電鏡的原位拉伸臺能實(shí)現(xiàn) 2N to 1000N 的拉力區(qū)間，拉伸速度可實(shí)現(xiàn) 0.1mm/min 到 15mm/min，滿足幾乎所有域樣品的原位拉伸觀測。

 

飛納臺式掃描電鏡 Phenom XL 拉伸臺

 

復(fù)納科學(xué)儀器 (上海) 有限公司 (Phenom-Scientific)，負(fù)責(zé)飛納臺式掃描電鏡在中國市場的推廣和銷售，提供業(yè)的技術(shù)支持和測試服務(wù)，飛納中國擁有業(yè)的服務(wù)團(tuán)隊(duì)，提供優(yōu)化的解決方案；飛納中國提出飛納學(xué)校 （Phenom University）的概念，為用戶提供從掃描電鏡基礎(chǔ)理論到 Level 5 應(yīng)用工程師的進(jìn)階培訓(xùn)，在上海、北京、廣州設(shè)立了測試中心和售后服務(wù)中心，目飛納在中國已經(jīng)擁有超過 1500 名用戶。

關(guān)鍵詞：飛納臺式掃描電鏡大樣品室卓越版  XL  

飛納電鏡——復(fù)納科學(xué)儀器（上海）有限公司，2012年創(chuàng)立于上海，為高校、企業(yè)和研究所提供臺式掃描電子顯微鏡，產(chǎn)品包含：臺式場發(fā)射掃描電鏡、CeB6 燈絲系列臺式掃描電鏡、Particle X 系列全自動(dòng)掃描電鏡以及掃描電鏡樣品制備設(shè)備——離子研磨儀等。

飛納電鏡還提供與臺式掃描電鏡相關(guān)的技術(shù)支持和測試服務(wù)。我們一直注顯微技術(shù)，致力于實(shí)現(xiàn)掃描電鏡平民化。飛納電鏡為用戶提供從掃描電鏡基礎(chǔ)理論到 Level 5 應(yīng)用工程師的進(jìn)階培訓(xùn)，在上海、北京、廣州、成都設(shè)立了測試中心和售后服務(wù)中心，目飛納電鏡在中國已經(jīng)擁有超過 2000 名用戶。

2017 年起，復(fù)納與荷蘭 Sioux 集團(tuán)（ASML 光刻機(jī)研發(fā)供應(yīng)商）合作開發(fā)基于分析儀器的數(shù)字化應(yīng)用解決方案；2018 年，復(fù)納引入并組建以 VSParticle 納米粒子發(fā)生器、ForgeNano 原子層沉積系統(tǒng)（美國）為主要產(chǎn)品的納米部門。復(fù)納又陸續(xù)引進(jìn)海外優(yōu)質(zhì)高科技設(shè)備：Technoorg Linda 離子研磨儀、DENSsolutions 透射電鏡原位樣品桿、NEOSCAN 臺式顯微 CT 到中國，旨在提高分析結(jié)果準(zhǔn)確性，提升儀器使用效率，節(jié)省人力成本。