全新的易于學(xué)習(xí)的界面可幫助您快速掌握新信息，是各種應(yīng)用的理想選擇。Phenom XL G2 升為全面屏成像，平均成像時間僅為 40 ，比市場上其他臺式電鏡的速度快 5 倍之多。系統(tǒng)可對大 100 x 100mm 的樣品進(jìn)行分析，8nm 的分辨率為分析提供更多的細(xì)節(jié)。利設(shè)計的放氣/樣品裝載系統(tǒng)可以實現(xiàn)全快的放氣/裝載速度，并獲得大的樣品吞吐效率。

全新的易于學(xué)習(xí)的界面可幫助您快速掌握信息，是各種應(yīng)用的理想選擇。Phenom XL G2 臺式掃描電鏡大樣品室版升為全面屏成像，平均成像時間僅為 40 ，比市場上其他臺式電鏡的速度快 5 倍之多。系統(tǒng)可對 100 x 100mm 的樣品進(jìn)行分析，8nm 的分辨率為分析提供更多的細(xì)節(jié)。

Phenom XL G2 標(biāo)配四分割背散射電子探頭（BSD），提供高品質(zhì)圖像及成分襯度信息。Phenom XL G2 可選配另外兩

種探測器。一種是*集成的能譜儀（即 EDS），可進(jìn)行元素分析。另外一種是二次電子探測器（SED），可觀察樣品表面微觀細(xì)節(jié)。此外，還可以選配 ProSuite 應(yīng)用拓展平臺。配備 ProSuite 軟件后，可以使用顆粒統(tǒng)計分析測量系統(tǒng)、孔徑統(tǒng)計分析測量系統(tǒng)、纖維統(tǒng)計分析測量系統(tǒng)、3D 粗糙度重建系統(tǒng)等軟件進(jìn)一步分析樣品。

 

臺式掃描電鏡大樣品室版 Phenom XL G2 參數(shù)

 

光學(xué)顯微鏡：放大 3-19 倍

電子顯微鏡：200,000 倍

探測器：高靈敏度四分割背散射電子探測器

燈絲材料：1,500 小時 CeB₆ 燈絲

分辨率：優(yōu)于 8 nm

放置環(huán)境：采用業(yè)防震設(shè)計，可擺放于普通實驗室或辦公室、廠房

加速電壓：4.8kV-20.5kV 連續(xù)可調(diào)

抽真空時間：小于 40

樣品尺寸：zui大 100 mm x 100 mm (可容納 36 個直徑 12 mm 的樣品臺)

 

復(fù)納科學(xué)儀器 (上海) 有限公司 (Phenom Scientific)，負(fù)責(zé)飛納臺式掃描電鏡在中國市場的推廣和銷售，提供業(yè)的和測試服務(wù)，飛納中國擁有業(yè)的服務(wù)團(tuán)隊，提供優(yōu)化的解決方案；飛納中國提出飛納學(xué)校 （Phenom University）的概念，為用戶提供從掃描電鏡基礎(chǔ)理論到 Level 5 應(yīng)用工程師的進(jìn)階培訓(xùn)，在上海、北京、廣州設(shè)立了測試中心和售后服務(wù)中心，目飛納在中國已經(jīng)擁有超過 1500 名用戶。

關(guān)鍵詞：飛納臺式掃描電鏡  Phenom  XL  

飛納電鏡——復(fù)納科學(xué)儀器（上海）有限公司，2012年創(chuàng)立于上海，為高校、企業(yè)和研究所提供臺式掃描電子顯微鏡，產(chǎn)品包含：臺式場發(fā)射掃描電鏡、CeB6 燈絲系列臺式掃描電鏡、Particle X 系列全自動掃描電鏡以及掃描電鏡樣品制備設(shè)備——離子研磨儀等。

飛納電鏡還提供與臺式掃描電鏡相關(guān)的技術(shù)支持和測試服務(wù)。我們一直注顯微技術(shù)，致力于實現(xiàn)掃描電鏡平民化。飛納電鏡為用戶提供從掃描電鏡基礎(chǔ)理論到 Level 5 應(yīng)用工程師的進(jìn)階培訓(xùn)，在上海、北京、廣州、成都設(shè)立了測試中心和售后服務(wù)中心，目飛納電鏡在中國已經(jīng)擁有超過 2000 名用戶。

2017 年起，復(fù)納與荷蘭 Sioux 集團(tuán)（ASML 光刻機(jī)研發(fā)供應(yīng)商）合作開發(fā)基于分析儀器的數(shù)字化應(yīng)用解決方案；2018 年，復(fù)納引入并組建以 VSParticle 納米粒子發(fā)生器、ForgeNano 原子層沉積系統(tǒng)（美國）為主要產(chǎn)品的納米部門。復(fù)納又陸續(xù)引進(jìn)海外優(yōu)質(zhì)高科技設(shè)備：Technoorg Linda 離子研磨儀、DENSsolutions 透射電鏡原位樣品桿、NEOSCAN 臺式顯微 CT 到中國，旨在提高分析結(jié)果準(zhǔn)確性，提升儀器使用效率，節(jié)省人力成本。