飛納掃描電鏡產品性能
第六代 Phenom Pro 是一款使用高亮度 CeB6 燈絲的高分辨臺式掃描電鏡。放大倍數 350,000 倍,用于觀察納米或者亞微米樣品的微觀結構。基于高亮度 CeB6 燈絲和全新的聚焦系統(tǒng),Phenom Pro 的分辨率輕松達到 6 nm,同時具有全自動操作、15 快速抽真空、不噴金觀看絕緣體、2-3 年更換燈絲等特點。

Phenom Pro 高分辨率業(yè)版
飛納掃描電鏡產品參數
光學顯微鏡:放大 20-135 倍
電子顯微鏡:350,000 倍
探測器:高靈敏度四分割背散射電子探測器
燈絲材料:1,500 小時 CeB6 燈絲
分辨率:優(yōu)于 6 nm
放置環(huán)境:采用業(yè)防震設計,可擺放于普通實驗室或辦公室、廠房
加速電壓:5kV-15kV 連續(xù)可調
抽真空時間:小于 15
Phenom Pro 后期可升為同時具備顯微圖像和元素成分分析的電鏡能譜一體機 Phenom ProX。Phenom Pro 可選配所有的樣品杯選件和所有的拓展功能軟件選件。
復納科學儀器 (上海) 有限公司 (Phenom-Scientific),負責飛納臺式掃描電鏡在中國市場的推廣和銷售,提供業(yè)的和測試服務,飛納中國擁有業(yè)的服務團隊,提供優(yōu)化的解決方案;飛納中國提出飛納學校 (Phenom University)的概念,為用戶提供從掃描電鏡基礎理論到 Level 5 應用工程師的進階培訓,在上海、北京、廣州設立了測試中心和售后服務中心,目飛納在中國已經擁有超過 1500 名用戶。
關鍵詞:
飛納臺式掃描電鏡 Phenom Pro
飛納電鏡——復納科學儀器(上海)有限公司,2012年創(chuàng)立于上海,為高校、企業(yè)和研究所提供臺式掃描電子顯微鏡,產品包含:臺式場發(fā)射掃描電鏡、CeB6 燈絲系列臺式掃描電鏡、Particle X 系列全自動掃描電鏡以及掃描電鏡樣品制備設備——離子研磨儀等。
飛納電鏡還提供與臺式掃描電鏡相關的技術支持和測試服務。我們一直注顯微技術,致力于實現掃描電鏡平民化。飛納電鏡為用戶提供從掃描電鏡基礎理論到 Level 5 應用工程師的進階培訓,在上海、北京、廣州、成都設立了測試中心和售后服務中心,目飛納電鏡在中國已經擁有超過 2000 名用戶。
2017 年起,復納與荷蘭 Sioux 集團(ASML 光刻機研發(fā)供應商)合作開發(fā)基于分析儀器的數字化應用解決方案;2018 年,復納引入并組建以 VSParticle 納米粒子發(fā)生器、ForgeNano 原子層沉積系統(tǒng)(美國)為主要產品的納米部門。復納又陸續(xù)引進海外優(yōu)質高科技設備:Technoorg Linda 離子研磨儀、DENSsolutions 透射電鏡原位樣品桿、NEOSCAN 臺式顯微 CT 到中國,旨在提高分析結果準確性,提升儀器使用效率,節(jié)省人力成本。