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產(chǎn)品屬性本產(chǎn)品采購(gòu)屬于商業(yè)貿(mào)易行為

NLD-4000（ICPM）PEALD原子層沉積系統(tǒng)

  • 市場(chǎng)價(jià)格： 電議
  • 產(chǎn)品型號(hào)： NLD-4000（ICPM）
  • 更新時(shí)間： 2025/1/6 16:24:45
  • 生產(chǎn)地： 中國(guó)大陸
  • 訪問(wèn)次數(shù)： 132次

    • 公司名稱： 那諾-馬斯特中國(guó)有限公司

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企業(yè)檔案

企業(yè)類型：生產(chǎn)商

公司地址：上海市徐匯區(qū)虹梅南路126弄翡翠別墅23號(hào)

主營(yíng)產(chǎn)品：薄膜沉積設(shè)備、薄膜生長(zhǎng)設(shè)備、干法刻蝕設(shè)備、兆聲濕法清洗設(shè)備及太空模擬測(cè)試設(shè)備等

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
NLD-4000（ICPM）PEALD系統(tǒng)概述：原子層沉積是一項(xiàng)沉積薄膜的重要技術(shù)，具有廣泛的應(yīng)用。ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠(yuǎn)超過(guò)其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的隨意性不會(huì)帶來(lái)影響，所以在ALD原子層沉積中有序、自限制的表面反應(yīng)將會(huì)帶來(lái)非統(tǒng)計(jì)的沉積。這使得ALD原子層沉積膜保持高度的光滑、連續(xù)以及無(wú)孔的特性，可以提供卓越的薄膜性能。ALD原子層工藝也可以實(shí)現(xiàn)到大基片上。

詳細(xì)內(nèi)容

詳細(xì)內(nèi)容

公司簡(jiǎn)介


原子層沉積技術(shù)

NLD-4000（ICPM）PEALD系統(tǒng)概述：原子層沉積是一項(xiàng)沉積薄膜的重要技術(shù)，具有廣泛的應(yīng)用。ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠(yuǎn)超過(guò)其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的隨意性不會(huì)帶來(lái)影響，所以在ALD原子層沉積中有序、自限制的表面反應(yīng)將會(huì)帶來(lái)非統(tǒng)計(jì)的沉積。這使得ALD原子層沉積膜保持高度的光滑、連續(xù)以及無(wú)孔的特性，可以提供卓越的薄膜性能。ALD原子層工藝也可以實(shí)現(xiàn)到大基片上。

NLD-4000（ICPM）PEALD系統(tǒng)特點(diǎn)：NLD-4000（ICPM）是一款緊湊型獨(dú)立的PC計(jì)算機(jī)控制的ALD原子層沉積系統(tǒng)，帶Labview軟件，具備四級(jí)密碼控制的用戶授權(quán)保護(hù)功能。系統(tǒng)為全自動(dòng)的安全互鎖設(shè)計(jì)，并提供了強(qiáng)大的靈活性，可以用于沉積多種薄膜（如：AL2O3, AlN, TiN, ZrO2, LaO2, HfO2,等等）。應(yīng)用領(lǐng)域包含半導(dǎo)體、光伏、MEMS等。NLD-4000（ICPM）系統(tǒng)提供12”的鋁質(zhì)反應(yīng)腔體，帶有加熱腔壁和氣動(dòng)升降頂蓋，非常方便腔體的訪問(wèn)和清潔。該系統(tǒng)擁有一個(gè)載氣艙包含多達(dá)7個(gè)50ml的加熱汽缸，用于前驅(qū)體以及反應(yīng)物，同時(shí)帶有N2或者Ar作為運(yùn)載氣體的快脈沖加熱傳輸閥。

NLD-4000（ICPM）PEALD系統(tǒng)選配：NLD-4000（ICPM）系統(tǒng)的選配項(xiàng)包含自動(dòng)L/UL上下載(用于6”基片)，臭氧發(fā)生器，等等。

NLD-4000（ICPM）PEALD系統(tǒng)應(yīng)用：

  • Oxides氧化物: Al203, HfO2, La2O3, SiO2, TiO ZnO, In2O3，etc

  • Nitrides氮化物: AlN, TiN, TaN, etc..

  • Photovoltaic and MEMS applications光伏及MEMS應(yīng)用.

  • Nano laminates納米復(fù)合材料


NLD-4000在6”晶圓片上的均勻性數(shù)據(jù)


周期：100個(gè)周期(TMA + H2O)

均勻度：0.36%

溫度：200°C

折射率：1.68



周期：300個(gè)周期（TMA + H2O）

均勻度：0.27%

溫度：200°C

折射率：1.67

 


關(guān)鍵詞：NLD-4000（ICPM）PEALD原子層沉積系統(tǒng)  

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