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NPE-4000 (ICPM) 等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

市場(chǎng)價(jià)格：電議
產(chǎn)品型號(hào)： NPE-4000 (ICPM)
更新時(shí)間： 2025/1/6 16:24:45
生產(chǎn)地： 中國(guó)大陸
訪問(wèn)次數(shù)： 151次

公司名稱(chēng)： 那諾-馬斯特中國(guó)有限公司

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那諾-馬斯特中國(guó)有限公司

企業(yè)類(lèi)型：生產(chǎn)商

公司地址：上海市徐匯區(qū)虹梅南路126弄翡翠別墅23號(hào)

主營(yíng)產(chǎn)品：薄膜沉積設(shè)備、薄膜生長(zhǎng)設(shè)備、干法刻蝕設(shè)備、兆聲濕法清洗設(shè)備及太空模擬測(cè)試設(shè)備等

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

NPE-4000（ICPM）ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)概述：NANO-MASTER ICPECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到最大可達(dá)6” 直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來(lái)產(chǎn)生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢(shì).樣品臺(tái)可以通過(guò)RF或脈沖DC產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機(jī)械泵，腔體可以達(dá)到低至10-7 torr的真空。標(biāo)準(zhǔn)配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個(gè)MFC.帶有獨(dú)一無(wú)二氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求，無(wú)論是等離子強(qiáng)度、均勻度，還是要分別激活某些活性組份，這樣系統(tǒng)可以覆蓋最廣的可能性來(lái)獲得各種沉積參數(shù)。

詳細(xì)內(nèi)容

公司簡(jiǎn)介

ICPECVD沉積技術(shù)

NPE-4000（ICPM）ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)概述：NANO-MASTER ICPECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO₂, Si₃N₄, 或DLC薄膜到最大可達(dá)6” 直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來(lái)產(chǎn)生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢(shì).樣品臺(tái)可以通過(guò)RF或脈沖DC產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機(jī)械泵，腔體可以達(dá)到低至10^-7 torr的真空。標(biāo)準(zhǔn)配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個(gè)MFC.帶有獨(dú)一無(wú)二氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求，無(wú)論是等離子強(qiáng)度、均勻度，還是要分別激活某些活性組份，這樣系統(tǒng)可以覆蓋最廣的可能性來(lái)獲得各種沉積參數(shù)。

NPE-4000（ICPM）ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)應(yīng)用：

等離子誘導(dǎo)表面改性：就是通常所說(shuō)的用等離子實(shí)現(xiàn)表面改性(如親水性、疏水性等)
等離子清洗：去除有機(jī)污染物
等離子聚合：對(duì)材料表面產(chǎn)生聚合反應(yīng)
沉積二氧化硅、氮化硅、DLC(類(lèi)金剛石)，以及其它薄膜
CNT(碳納米管)和石墨烯的選擇性生長(zhǎng)：在需要的位置生長(zhǎng)CNT或石墨烯。

NPE-4000（ICPM）ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)特點(diǎn)：

立式ICPECVD系統(tǒng)
不銹鋼或鋁制腔體
極限真空可達(dá)10-7Torr
ICP離子源
高達(dá)12”(300mm)直徑的樣品臺(tái)
RF射頻偏壓樣品臺(tái)
水冷樣品臺(tái)
可加熱到的800 °C樣品臺(tái)
加熱的氣體管路
加熱的液體傳送單元
抗腐蝕的渦輪分子泵組
最大可支持到8MFC
基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制
菜單驅(qū)動(dòng)，4級(jí)密碼訪問(wèn)保護(hù)
完整的安全聯(lián)鎖

關(guān)鍵詞：NPE-4000 (ICPM) 等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

那諾-馬斯特中國(guó)有限公司成立于2015年4月，是服務(wù)大中華區(qū)(包含中國(guó)大陸，香港，臺(tái)灣和澳門(mén))的客戶(hù)，同時(shí)我們?cè)谥袊?guó)大陸設(shè)有門(mén)的服務(wù)辦公室，提供銷(xiāo)售和售后技術(shù)服務(wù)。

那諾-馬斯特中國(guó)的主要產(chǎn)品包括薄膜沉積設(shè)備、薄膜生長(zhǎng)設(shè)備、干法刻蝕設(shè)備、兆聲濕法清洗設(shè)備及太空模擬測(cè)試設(shè)備等等。Nano-Master的身是那諾-馬斯特美國(guó)，該公司是法國(guó)那諾-馬斯特有限公司于1992年在美國(guó)所創(chuàng)立的全資子公司，是一家國(guó)際先的缺陷檢測(cè)和高速鍍層測(cè)量的計(jì)量公司。自從1993年開(kāi)始Birol Kuyel博士全面接管那諾-馬斯特美國(guó)并正式更名。

自2001年Nano-Master開(kāi)始設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)薄膜應(yīng)用方面的設(shè)備，正式面世的系統(tǒng)依次是磁控濺射、PECVD、晶圓/掩模版清洗系統(tǒng)…。應(yīng)用域涵蓋了半導(dǎo)體、MEMS、光電子學(xué)、納米技術(shù)和光伏等。我們的設(shè)備包含用于二氧化硅、氮化硅、類(lèi)金剛石和CNT沉積的PECVD，用于InGaN、AlGaN生長(zhǎng)的PA-MOCVD，濺射鍍膜(反應(yīng)濺、共濺、組合濺)，熱蒸發(fā)和電子束蒸發(fā)，離子束刻蝕和反應(yīng)離子刻蝕，原子層沉積，兆聲清洗以及光刻膠剝離等。三十年左右的時(shí)間內(nèi)Nano-Master已經(jīng)發(fā)展成為全球薄膜設(shè)備的供應(yīng)商，已售出的幾百套設(shè)備分布于20多個(gè)不同國(guó)家的大學(xué)、研發(fā)中心和國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室。

我們聘用技術(shù)熟練并具有良好教育背景的設(shè)計(jì)和制造工程師、應(yīng)用工程師、服務(wù)工程師、技術(shù)支持人員，使得公司擁有一流的服務(wù)團(tuán)隊(duì)。作為薄膜工藝的設(shè)備提供商，我們的目標(biāo)是提供高品質(zhì)的服務(wù)并始終維持高水平的集成度。

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