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產(chǎn)品屬性本產(chǎn)品采購屬于商業(yè)貿(mào)易行為

全自動(dòng)原子層沉積系統(tǒng)(ALD)

  • 市場(chǎng)價(jià)格： 電議
  • 產(chǎn)品型號(hào)： Savannah G2 ALD
  • 更新時(shí)間： 2020/5/27 10:27:42
  • 生產(chǎn)地： 中國大陸
  • 訪問次數(shù)： 679次

    • 公司名稱： 香港電子器材有限公司

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企業(yè)類型：代理商

公司地址：江蘇省蘇州市東環(huán)路129號(hào)華東大廈東側(cè)201室

主營產(chǎn)品：光學(xué)光電與太陽能光伏、晶圓制造、IC封裝與測(cè)試

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
Veeco(之前稱之為Cambridge Nanotech)已經(jīng)有15年以上的ALD研發(fā)生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大學(xué)，05年搬到Boston并生產(chǎn)出Thermal ALD - Savannah, 之后生產(chǎn)出Plasam ALD - Fuji、批量生產(chǎn)ALD-Phoenix。2017年被Veeco收購，并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今為止，Veeco在ALD設(shè)備已有15年多的經(jīng)驗(yàn)，全球已安裝五百多臺(tái)ALD設(shè)備。

詳細(xì)內(nèi)容

詳細(xì)內(nèi)容

公司簡(jiǎn)介

    Veeco(之前稱之為Cambridge Nanotech)已經(jīng)有15年以上的ALD研發(fā)生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大學(xué)，05年搬到Boston并生產(chǎn)出Thermal ALD - Savannah, 之后生產(chǎn)出Plasam ALD - Fuji、批量生產(chǎn)ALD-Phoenix。2017年被Veeco收購，并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今為止，Veeco在ALD設(shè)備已有15年多的經(jīng)驗(yàn)，全球已安裝五百多臺(tái)ALD設(shè)備。

方式: Thermal ALD (plasma option)

優(yōu)勢(shì): 性能強(qiáng)，成本小，易于操作和維護(hù)

薄膜: 氧化物Al2O3, HfO2, La2O3, Li2O, Li7La3Zr2O12, LiFePO4, SIO2, TiO2, ZnO, ZrO2, Ta2O5, In2O3, SnO2, Fe2O3, MnOx, Nb2O5, MgO, Er2O3, WOx, MoO3, V2O3 硫化物ZnS, SnS, Cu2S, In2S3, Cu2ZnSnS4,PbS, CoS等

反應(yīng)腔體大小: S100: 可達(dá)100 mm / S200: 可達(dá)200 mm  / S300: 可達(dá)300 mm

設(shè)備尺寸: S100: 585 x 560 x 980 mm / S200: 585 x 560 x 980 mm / S300: 686 x 560 x 980 mm

操作模式: 連續(xù)模式(高速) / 曝光模式(超高深寬比)

功率: 115 VAC / 220 VAC,1900 W (不包含泵) (S300 2000W)

最強(qiáng)溫度: S100: RT - 400 °C / S200: RT - 350 °C / S300: RT - 350 °C

沉積均一性: Al2O3：<1% (1σ)

循環(huán)時(shí)間: <2s per cycle with Al2O3 at 200°C

兼容: 標(biāo)準(zhǔn)二端口，可增加至六端口。每一個(gè)源瓶均可放固態(tài)/液態(tài)/氣態(tài)前驅(qū)體，可獨(dú)立加熱至200°C

閥門: 高速ALD閥門，10ms響應(yīng)

前驅(qū)體源瓶: 獨(dú)立可加熱50ml不銹鋼氣瓶，可選擇更大容量

載氣/排氣: N2，100SCCM

原位分析選項(xiàng): 原位QCM, 原位橢便儀, 殘余氣體分析, LVPD, 批量生產(chǎn), 集成手套箱等, 臭氧發(fā)生器, 批量生產(chǎn), 自組裝單層膜(SAMs)顆粒鍍膜, 等離子體加強(qiáng)



關(guān)鍵詞：全自動(dòng)原子層沉積系統(tǒng)(ALD)  

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