儀器簡(jiǎn)介：
此產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于：半導(dǎo)體、納米材料、鈉米科技、薄膜材料、薄膜沉積以及航空航天領(lǐng)域。
PICOSUN公司是一個(gè)國(guó)際化的設(shè)備制造商，在全球有銷(xiāo)售和服務(wù)機(jī)構(gòu).我們開(kāi)發(fā)和制造原子層沉積反應(yīng)器用于微米和納米技術(shù)應(yīng)用。PICOSUN為客戶提供用戶友好，可靠及多產(chǎn)的ALD工藝工具，提供從研發(fā)到生產(chǎn)的工業(yè)放大。PICOSUN基地在芬蘭的espoo，美國(guó)總部在Detroit。SUNALE型ALD工藝工具被用于歐州、美國(guó)及亞洲前沿的科學(xué)機(jī)構(gòu)、公司。
PICOSUN擁有30多年在芬蘭ALD反應(yīng)器制造而得到的專(zhuān)業(yè)技術(shù)。Tuomo Suntola博士，于1974年發(fā)明了ALD技術(shù)，是PICOSUN董事會(huì)的成員。我們的首席技術(shù)官SVEN LINDFORS從1975年開(kāi)始連續(xù)的設(shè)計(jì)ALD系統(tǒng)。綜合起來(lái)講，PICOSUN擁有了200多年的ALD經(jīng)驗(yàn)并貢獻(xiàn)了100多項(xiàng)ALD專(zhuān)利。我們悠久的歷史和廣泛的背景使PICOSUN成為ALD技術(shù)優(yōu)質(zhì)的合作伙伴。
技術(shù)參數(shù)：
技術(shù)指標(biāo)
SUNALE™ R系列技術(shù)特點(diǎn)
基本特點(diǎn)：
晶片尺寸 2-6”, 50-150 mm (8’’ = 200 mm on request)
工藝溫度 Up to 500°C
反應(yīng)室體積 小型、中型、大型
反應(yīng)室材料 316 SS, Ti, Ni, Al (quartz)
前驅(qū)體 2-6 氣體 / 氣體 / 固體
基片裝載 氣體升降
尺寸：
尺寸 27.6 x 41.3 x 36.4’’, 70 x 105 x 92.5 cm (W x H x D)
重量 200 kg
工況：
電源 100-240 V, 50/60 Hz, 1- or 3-phase, 3.7 kW Vac
真空泵 30-80 m3/h
載氣 99.999 % N2 / Ar, min. 2 slm
壓縮空氣 4-5.5 bar 過(guò)壓
冷卻水 反應(yīng)器不需要
排氣 為真空泵及源櫥柜配備
樣品裝載選項(xiàng)：
Picoloader™手動(dòng)樣品裝載系統(tǒng)，帶一個(gè)預(yù)真空室和閘閥
主要特點(diǎn)：
特點(diǎn)
多功能的反應(yīng)器設(shè)計(jì)
全套的服務(wù)
關(guān)鍵詞：
原子層沉積系統(tǒng)
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