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PICOSUN®P-300B原子層沉積

  • 市場(chǎng)價(jià)格: 電議
  • 產(chǎn)品型號(hào): PICOSUN
  • 更新時(shí)間: 2025/6/16 8:27:17
  • 生產(chǎn)地: 中國大陸
  • 訪問次數(shù): 618次
  • 公司名稱: 北京亞科晨旭科技有限公司

企業(yè)檔案

北京亞科晨旭科技有限公司

5 營業(yè)執(zhí)照已上傳

企業(yè)類型:代理商

公司地址:北京市朝陽區(qū)酒仙橋路

主營產(chǎn)品:1. 全套微組裝生產(chǎn)線設(shè)備 2. 全套半導(dǎo)體前道設(shè)備 3. 全套SMT生產(chǎn)線設(shè)備 4. LTCC和線纜處理設(shè)備

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產(chǎn)品簡介

PICOSUN®P-300B ALD系統(tǒng)是專為生產(chǎn)MEMS設(shè)備(例如打印頭,傳感器和麥克風(fēng))以及各種3D物品(例如機(jī)械零件,玻璃或金屬薄板,硬幣,手表零件和珠寶,鏡片,光學(xué)器件以及醫(yī)療設(shè)備和植入物。

詳細(xì)內(nèi)容

詳細(xì)內(nèi)容

公司簡介

PICOSUN®P-300B

PICOSUN®P-300B ALD系統(tǒng)是專為生產(chǎn)MEMS設(shè)備(例如打印頭,傳感器和麥克風(fēng))以及各種3D物品(例如機(jī)械零件,玻璃或金屬薄板,硬幣,手表零件和珠寶,鏡片,光學(xué)器件以及醫(yī)療設(shè)備和植入物。

PICOSUN®P-300 ALD系統(tǒng)已成為大批量ALD制造中的新標(biāo)準(zhǔn)。通過將我們的熱墻設(shè)計(jì)與完全分開的入口集成在一起,我們可以生產(chǎn)出具有優(yōu)異產(chǎn)量,低顆粒水平以及卓越的電學(xué)和光學(xué)性能的最高質(zhì)量的ALD膜。靈活的設(shè)計(jì)以及易于快速的維護(hù),確保了系統(tǒng)停機(jī)時(shí)間最少,市場(chǎng)擁有成本最低。我們專有的Picoflow™擴(kuò)散增強(qiáng)劑技術(shù)可通過經(jīng)過生產(chǎn)驗(yàn)證的工藝,在超高深寬比的基材上實(shí)現(xiàn)高度保形的涂層。

PICOSUN®P-300B ALD系統(tǒng)是專門為MEMS3維零件生產(chǎn)中的批處理而設(shè)計(jì)的,例如機(jī)械零件,硬幣,鐘表零件和珠寶,鏡片,光學(xué)元件和醫(yī)療設(shè)備,外科植入物和植入物的涂層設(shè)備(PicoMEDICAL™解決方案)。該系統(tǒng)速度快,可靠性高且易于維護(hù)。

 

PICOSUN®P-300BV

PICOSUN®P-300BV ALD系統(tǒng)是專門為生產(chǎn)LED,分立器件和MEMS設(shè)備(例如打印頭,傳感器和麥克風(fēng))而設(shè)計(jì)的。

PICOSUN®P-300 ALD系統(tǒng)已成為大批量ALD制造中的新標(biāo)準(zhǔn)。通過將我們的熱墻設(shè)計(jì)與完全分開的入口集成在一起,我們可以生產(chǎn)出具有優(yōu)異產(chǎn)量,低顆粒水平以及卓越的電學(xué)和光學(xué)性能的最高質(zhì)量的ALD膜。靈活的設(shè)計(jì)以及易于快速的維護(hù),確保了系統(tǒng)停機(jī)時(shí)間最少,市場(chǎng)擁有成本最低。我們專有的Picoflow™擴(kuò)散增強(qiáng)劑技術(shù)可通過經(jīng)過生產(chǎn)驗(yàn)證的工藝,在超高深寬比的基材上實(shí)現(xiàn)高度保形的涂層。

PICOSUN®P-300BV ALD系統(tǒng)代表了工業(yè)ALD的尖端。該系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于半自動(dòng)處理晶圓批次。該工具針對(duì)快速批量生產(chǎn)進(jìn)行了優(yōu)化,可以通過SECS / GEM選件集成到工廠自動(dòng)化中。帶有加熱選件的真空加載系統(tǒng)能夠?qū)γ舾谢倪M(jìn)行清潔處理,并沉積諸如金屬氮化物之類的材料。

 

PICOSUN®P-300S

PICOSUN®P-300S ALD系統(tǒng)是專門為生產(chǎn)IC組件(例如微處理器,存儲(chǔ)器和硬盤驅(qū)動(dòng)器)而設(shè)計(jì)的,并且還適用于MEMS設(shè)備(例如打印頭,傳感器和麥克風(fēng))。

PICOSUN®P-300 ALD系統(tǒng)已成為大批量ALD制造中的新標(biāo)準(zhǔn)。通過將我們的熱墻設(shè)計(jì)與完全分開的入口集成在一起,我們可以生產(chǎn)出具有優(yōu)異產(chǎn)量,低顆粒水平以及卓越的電學(xué)和光學(xué)性能的最高質(zhì)量的ALD膜。靈活的設(shè)計(jì)以及易于快速的維護(hù),確保了系統(tǒng)停機(jī)時(shí)間最少,市場(chǎng)擁有成本最低。我們專有的Picoflow™擴(kuò)散增強(qiáng)劑技術(shù)可通過經(jīng)過生產(chǎn)驗(yàn)證的工藝,在超高深寬比的基材上實(shí)現(xiàn)高度保形的涂層。

PICOSUN®P-300S ALD系統(tǒng)代表了工業(yè)ALD的尖端。該系統(tǒng)旨在與行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)真空集群平臺(tái)結(jié)合使用,對(duì)單個(gè)晶圓進(jìn)行全自動(dòng)處理?梢酝ㄟ^SECS / GEM選件將SEMI S2 / S8認(rèn)證的P-300S ALD系統(tǒng)集成到工廠自動(dòng)化中,它們可以滿足半導(dǎo)體行業(yè)最嚴(yán)格的清潔度要求。

PICOSUN®P-300SIC創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)行業(yè)的首選ALD系統(tǒng)。

 

PICOSUN®P-1000

PICOSUN®P-1000 ALD系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于批量噴涂各種3D物品,例如機(jī)械零件,玻璃或金屬薄板,硬幣,手表零件和珠寶,鏡片,光學(xué)器件以及醫(yī)療設(shè)備和植入物。

PICOSUN®P-1000 ALD系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于批量處理各種3維物品,例如機(jī)械零件,硬幣,鐘表零件和珠寶,鏡片,光學(xué)器件和醫(yī)療設(shè)備,外科植入物和可植入設(shè)備(PicoMEDICAL™解決方案)在生產(chǎn)環(huán)境中。主要應(yīng)用包括各種鈍化層和阻擋層,以顯著提高涂層產(chǎn)品的性能和使用壽命。 PICOSUN®P-1000 ALD系統(tǒng)提供創(chuàng)新且靈活的設(shè)計(jì),可通過經(jīng)過生產(chǎn)驗(yàn)證的工藝,以優(yōu)異的均勻性,最高的產(chǎn)量,最小的系統(tǒng)停機(jī)時(shí)間和較低的擁有成本,實(shí)現(xiàn)最高質(zhì)量的ALD沉積。

PICOSUN®P-1000 ALD系統(tǒng)可靠,快速且易于維護(hù),代表了工業(yè)ALD的前沿。

 

PICOSUN®Morpher

PICOSUN®Morpher ALD產(chǎn)品平臺(tái)旨在顛覆Beyond和超越摩爾技術(shù)中的200毫米晶圓產(chǎn)業(yè)。它以領(lǐng)先的過程質(zhì)量,可靠性和操作敏捷性,實(shí)現(xiàn)了MEMS,傳感器,LED,激光器,功率電子器件,光學(xué)器件和5G組件的快速,全自動(dòng),高通量生產(chǎn)。從公司研發(fā)到生產(chǎn)和鑄造制造的所有業(yè)務(wù)領(lǐng)域,Morpher都能適應(yīng)您行業(yè)不斷變化的需求和客戶的需求。基質(zhì)材料,基質(zhì)和批量大小方面的領(lǐng)先多功能性以及廣泛的工藝范圍,使Morpher真正成為可轉(zhuǎn)變的,包羅萬象的制造設(shè)施,使您始終引領(lǐng)行業(yè)。

PICOSUN®Morpher設(shè)計(jì)用于結(jié)合行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的單晶圓真空集群平臺(tái)來全自動(dòng)處理晶圓批次。革命性的獲得的晶圓批量翻轉(zhuǎn)機(jī)制使該系統(tǒng)能夠與半導(dǎo)體生產(chǎn)線集成,在該生產(chǎn)線中,大多數(shù)處理都是在水平幾何結(jié)構(gòu)中進(jìn)行的,并且SEMI S2 / S8認(rèn)證可確保該系統(tǒng)與業(yè)界最嚴(yán)格的標(biāo)準(zhǔn)兼容。

PICOSUN®Morpher ALD系統(tǒng)可通過SECS / GEM協(xié)議集成到工廠自動(dòng)化中,而最先進(jìn)的軟件可通過直觀,精簡的圖形用戶界面為系統(tǒng)提供簡單,安全和無故障的操作。憑借我們獲得的雙室,熱壁反應(yīng)器設(shè)計(jì)以及完全分離的前驅(qū)體導(dǎo)管和入口,我們可以創(chuàng)造出最高質(zhì)量的ALD膜,具有優(yōu)異的產(chǎn)率,低顆粒水平以及出色的電學(xué)和光學(xué)性能。緊湊的,符合人體工程學(xué)的設(shè)計(jì)以及便捷的維護(hù),確保了系統(tǒng)停機(jī)時(shí)間最少,市場(chǎng)擁有成本最低。


關(guān)鍵詞:ALD  原子層沉積  P300  

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