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全自動(dòng)高精度穆勒矩陣型橢偏儀

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企業(yè)檔案

企業(yè)類(lèi)型:生產(chǎn)商

公司地址:沈陽(yáng)市渾南區(qū)渾南中路35-27號(hào)國(guó)際產(chǎn)業(yè)園 沈陽(yáng)科晶自動(dòng)化設(shè)備有限公司

主營(yíng)產(chǎn)品:  沈陽(yáng)科晶自動(dòng)化設(shè)備有限公司于2000年5月創(chuàng)建。自臺(tái)SYJ-150低速金剛石切割機(jī)誕生以來(lái),沈陽(yáng)科晶便開(kāi)始了以趕超國(guó)外同行、引領(lǐng)材料分析設(shè)備潮流為目標(biāo)的發(fā)展歷程。時(shí)至今日,已經(jīng)擁有涵蓋材料切割、研磨、拋光、涂膜、鍍膜、混合、壓軋、燒結(jié)、分析等領(lǐng)域以及相關(guān)耗材的上百種產(chǎn)品,可以滿足晶體、陶瓷、玻璃、巖相、礦樣、金屬材料、耐火材料、復(fù)合材料的制備分析的全套需要。

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

產(chǎn)品簡(jiǎn)介:ME-L是一款科研級(jí)全自動(dòng)高精度穆勒矩陣型橢偏儀,凝聚了科研團(tuán)隊(duì)在橢偏技術(shù)多年的投入,其采用行業(yè)前沿的創(chuàng)新技術(shù),包括消色差補(bǔ)償器、雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器同步控制、穆勒矩陣數(shù)據(jù)分析等?蓱(yīng)用于半導(dǎo)體薄膜結(jié)構(gòu),半導(dǎo)體周期性納米結(jié)構(gòu),新材料,新物理現(xiàn)象研究,平板顯示,光伏太陽(yáng)能,功能性涂料,生物和化學(xué)工程,塊狀材料分析以及各種各向同性/異性薄膜材料膜厚、光學(xué)納米光柵常數(shù)以及一維/二維納米光柵材料結(jié)構(gòu)的表征分析。雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器(DRC)配置一次測(cè)量全部穆勒矩陣16個(gè)元素;配置自動(dòng)變角器、五維樣件控制平臺(tái)等優(yōu)質(zhì)硬件模塊,軟件交互式界面配合輔助向?qū)皆O(shè)計(jì),易上手、操作便捷;豐富的數(shù)據(jù)庫(kù)和幾何結(jié)構(gòu)模型庫(kù),保證強(qiáng)大數(shù)據(jù)分析能力。

詳細(xì)內(nèi)容

詳細(xì)內(nèi)容

公司簡(jiǎn)介

產(chǎn)品簡(jiǎn)介:ME-L是一款科研級(jí)全自動(dòng)高精度穆勒矩陣型橢偏儀,凝聚了科研團(tuán)隊(duì)在橢偏技術(shù)多年的投入,其采用行業(yè)前沿的創(chuàng)新技術(shù),包括消色差補(bǔ)償器、雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器同步控制、穆勒矩陣數(shù)據(jù)分析等?蓱(yīng)用于半導(dǎo)體薄膜結(jié)構(gòu),半導(dǎo)體周期性納米結(jié)構(gòu),新材料,新物理現(xiàn)象研究,平板顯示,光伏太陽(yáng)能,功能性涂料,生物和化學(xué)工程,塊狀材料分析以及各種各向同性/異性薄膜材料膜厚、光學(xué)納米光柵常數(shù)以及一維/二維納米光柵材料結(jié)構(gòu)的表征分析。

雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器(DRC)配置一次測(cè)量全部穆勒矩陣16個(gè)元素;配置自動(dòng)變角器、五維樣件控制平臺(tái)等優(yōu)質(zhì)硬件模塊,軟件交互式界面配合輔助向?qū)皆O(shè)計(jì),易上手、操作便捷;豐富的數(shù)據(jù)庫(kù)和幾何結(jié)構(gòu)模型庫(kù),保證強(qiáng)大數(shù)據(jù)分析能力。

 

產(chǎn)品型號(hào)

ME-L全自動(dòng)高精度穆勒矩陣型橢偏儀

主要特點(diǎn)

1、采用氘燈和鹵素?zé)魪?fù)合光源,光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm)

2、可實(shí)現(xiàn)穆勒矩陣數(shù)據(jù)處理,測(cè)量信息量更大,測(cè)量速度快、數(shù)據(jù)更加精準(zhǔn)

3、基于雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器配置,可一次測(cè)量獲得全部穆勒矩陣的16個(gè)元素,相對(duì)傳統(tǒng)光譜橢偏儀可獲取更加豐富全面的測(cè)量信息

4、頤光專(zhuān)利技術(shù)確保在寬光譜范圍內(nèi),提供優(yōu)質(zhì)穩(wěn)定的各波段光譜

5、數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫(kù)、多種算法模型庫(kù),涵蓋了目前絕大部分的光電材料

6、集成對(duì)納米光柵的分析,可同時(shí)測(cè)量分析納米結(jié)構(gòu)周期、線寬、線高、側(cè)壁角、粗糙度等幾何形貌信息

技術(shù)參數(shù)

1、應(yīng)用:科研級(jí)/企業(yè)級(jí)

2、基本功能:Psi/Delta、R/T、穆勒矩陣等光譜

3、分析光譜:380-1000nm(支持?jǐn)U展至210-1650nm)

4、單次測(cè)量時(shí)間:1-8s

5、重復(fù)性測(cè)量精度:0.005nm

6、絕對(duì)精度(直通測(cè)量空氣)

  橢偏參數(shù):ψ=45±0.05°△=0±0.1°

  穆勒矩陣:對(duì)角元素m=1±0.005;非對(duì)角元素m=0±0.005

7、光斑大。捍蠊獍2-3mm;微光斑200μm

可選配置

波段選擇

V:380-1000nm

UV:245-1000nm

XN:210-1650nm

DN+:193-2500nm

角度選擇

自動(dòng):45-90°

手動(dòng):55-75°(5°步進(jìn)),90°

固定:65°

其他選擇

Mapping選擇:100×100mm(供參考,按需定制)

溫控臺(tái):室溫一600C(供參考,按需定制)

可選配件

1

溫控臺(tái)

2

Mapping擴(kuò)展模塊

3

真空泵

4

透射吸附組件



關(guān)鍵詞:全自動(dòng)高精度穆勒矩陣型橢偏儀  

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