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光譜橢偏儀

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企業(yè)檔案

企業(yè)類型:生產(chǎn)商

公司地址:沈陽(yáng)市渾南區(qū)渾南中路35-27號(hào)國(guó)際產(chǎn)業(yè)園 沈陽(yáng)科晶自動(dòng)化設(shè)備有限公司

主營(yíng)產(chǎn)品:  沈陽(yáng)科晶自動(dòng)化設(shè)備有限公司于2000年5月創(chuàng)建。自臺(tái)SYJ-150低速金剛石切割機(jī)誕生以來(lái),沈陽(yáng)科晶便開始了以趕超國(guó)外同行、引領(lǐng)材料分析設(shè)備潮流為目標(biāo)的發(fā)展歷程。時(shí)至今日,已經(jīng)擁有涵蓋材料切割、研磨、拋光、涂膜、鍍膜、混合、壓軋、燒結(jié)、分析等領(lǐng)域以及相關(guān)耗材的上百種產(chǎn)品,可以滿足晶體、陶瓷、玻璃、巖相、礦樣、金屬材料、耐火材料、復(fù)合材料的制備分析的全套需要。

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

產(chǎn)品簡(jiǎn)介:SE-Mapping光譜橢偏儀是一款可定制化Mapping繪制化測(cè)量光譜橢偏儀,采用行業(yè)前沿創(chuàng)新技術(shù),配置全自動(dòng)Mapping測(cè)量模塊,通過橢偏參數(shù)、 透射/反射率等參數(shù)的測(cè)量,快速實(shí)現(xiàn)薄膜全基片膜厚以及光學(xué)參數(shù)自定義繪制化測(cè)量表征分析。SE-Mapping光譜橢偏儀廣泛應(yīng)用OLED,LED,光伏,集成電路等工業(yè)應(yīng)用中,實(shí)現(xiàn)大尺寸全基片膜厚、光學(xué)常數(shù)以及膜厚分布快速測(cè)量與表征。

詳細(xì)內(nèi)容

詳細(xì)內(nèi)容

公司簡(jiǎn)介

產(chǎn)品簡(jiǎn)介:SE-Mapping光譜橢偏儀是一款可定制化Mapping繪制化測(cè)量光譜橢偏儀,采用行業(yè)前沿創(chuàng)新技術(shù),配置全自動(dòng)Mapping測(cè)量模塊,通過橢偏參數(shù)、 透射/反射率等參數(shù)的測(cè)量,快速實(shí)現(xiàn)薄膜全基片膜厚以及光學(xué)參數(shù)自定義繪制化測(cè)量表征分析。SE-Mapping光譜橢偏儀廣泛應(yīng)用OLED,LED,光伏,集成電路等工業(yè)應(yīng)用中,實(shí)現(xiàn)大尺寸全基片膜厚、光學(xué)常數(shù)以及膜厚分布快速測(cè)量與表征。

 

產(chǎn)品型號(hào)

SE-Mapping光譜橢偏儀

主要特點(diǎn)

1、全基片橢偏繪制化測(cè)量解決方案

2、支持產(chǎn)品設(shè)計(jì)以及功能模塊定制化,一鍵繪制測(cè)量

3、配置Mapping模塊,全基片自定義多點(diǎn)定位測(cè)量能力

4、豐富的數(shù)據(jù)庫(kù)和幾何結(jié)構(gòu)模型庫(kù),保證強(qiáng)大數(shù)據(jù)分析能力

5、采用氘燈和鹵素?zé)魪?fù)合光源,光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm)

6、高精度旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器調(diào)制、PCRSA配置,實(shí)現(xiàn)Psi/Delta光譜數(shù)據(jù)高速采集

7、具備全基片自定義多點(diǎn)自動(dòng)定位測(cè)量能力,提供全面膜厚檢測(cè)分析報(bào)告

8、數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫(kù)、多種算法模型庫(kù),涵蓋了目前絕大部分的光電材料

技術(shù)參數(shù)

1、自動(dòng)化程度:固定角+ mapping

2、應(yīng)用定位:檢測(cè)型

3、基本功能:Psi/Delta、N/C/S、R等光譜

4、分析光譜:380-1000nm(可擴(kuò)至193-2500nm)

5、單次測(cè)量時(shí)間:0.5-5s

6、重復(fù)性測(cè)量精度:0.01nm

7、光斑大。捍蠊獍2-3mm,微光斑200um

8、入射角調(diào)節(jié)方式:固定角

9、入射角范圍:65°

10、找焦方式:手動(dòng)找焦

11、Mapping1程:300x300mm

12、支持樣件尺寸:最大至300mm

可選配件

3

真空泵

4

透射吸附組件



關(guān)鍵詞:光譜橢偏儀  

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