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產(chǎn)品屬性本產(chǎn)品采購屬于商業(yè)貿(mào)易行為

單面光刻機(jī) 高精度光刻機(jī) 臺(tái)式光刻機(jī)

  • 市場(chǎng)價(jià)格: 電議
  • 產(chǎn)品型號(hào): JC502-17G
  • 更新時(shí)間: 2025/6/6 0:45:03
  • 生產(chǎn)地: 中國大陸
  • 訪問次數(shù): 642次
  • 公司名稱: 北京百萬電子科技中心

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企業(yè)檔案

企業(yè)類型:經(jīng)銷商

公司地址:北京

主營產(chǎn)品:主要產(chǎn)品:主營儀器儀表、氣體檢測(cè)儀、金屬探測(cè)儀、環(huán)保設(shè)備、醫(yī)療、化學(xué)試劑、實(shí)驗(yàn)室儀器、化工儀器設(shè)備、農(nóng)業(yè)儀器、機(jī)電設(shè)備、電力通訊設(shè)備等近百個(gè)行業(yè)50多萬種儀器儀表和相關(guān)設(shè)備供廣大需求者選購。

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產(chǎn)品簡介

主要用途:
主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。

詳細(xì)內(nèi)容

詳細(xì)內(nèi)容

公司簡介

 產(chǎn)品名稱:單面光刻機(jī) 高精度光刻機(jī) 臺(tái)式光刻機(jī)
產(chǎn)品型號(hào):JC502-17G
主要用途: 
主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。主要構(gòu)成: 
    主要由高精度對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)、雙目分離視場(chǎng)顯微鏡(或CCD顯微顯示系統(tǒng))、曝光頭、氣動(dòng)系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)、直聯(lián)式真空泵、防震工作臺(tái)和附件箱等組成。 
主要功能特點(diǎn) 
1.適用范圍廣 
    適用于φ100mm以下,厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對(duì)準(zhǔn)曝光。 
2.結(jié)構(gòu)先進(jìn) 
    具有氣浮式找平機(jī)構(gòu)和可實(shí)現(xiàn)真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機(jī)構(gòu);具有真空掩膜版架、真空片吸盤。 
3.操作簡便 
    采用翻板方式取片、放片;按鈕、按鍵方式操作,可實(shí)現(xiàn)真空吸版、吸片、吸浮球、吸掃描鎖等,操作、調(diào)試、維護(hù)、修理都非常簡便。 
4.可靠性高 
    采用進(jìn)口電磁閥、按鈕、定時(shí)器;采用獨(dú)特的氣動(dòng)系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)和精密的零件加工,使本機(jī)具有非常高的可靠性。 
5.特設(shè)“碎片”處理功能 
    解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開所引起的版片無法對(duì)準(zhǔn)的問題。 
主要技術(shù)指標(biāo) 

◆曝光分辨率:1.5μm 
◆套刻精度:1μm 
◆掩膜版、基片固定方式:真空吸附 
◆微動(dòng)臺(tái)X、Y方向大移動(dòng)±4mm 
◆微動(dòng)臺(tái)X、Y方向掃描±20mm 
◆承片臺(tái)大旋角90°、大升降5mm 
◆采用平行均勻的光源: 
  大出射光束≥φ115mm 
  光束不平行度≤6° 
  光的不均勻性≤±5% 
  200瓦直流汞燈、風(fēng)冷 
◆采用雙目分離視場(chǎng)顯微鏡: 
  放大倍數(shù) 30×-375× 
  雙物鏡距離 20-69mm 
  或CCD顯微顯示系統(tǒng) 
◆動(dòng)力:壓縮空氣:≥3.5kg 
         電    壓:AC220V/50Hz 
         功    率:1000W 
◆外形尺寸:918×680×1300(L×W×H) 
◆重量:150kg.
關(guān)鍵詞:單面光刻機(jī)    高精度光刻機(jī)    臺(tái)式光刻機(jī)  

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