科研用CNI v4.0是一種非常靈活的納米壓印機。它可提供加熱型納米壓印、UV紫外納米壓印以及真空納米壓印。模塊化系統(tǒng)可根據(jù)特定需求輕松配置，體積小，容易存放，大可處理210mm(8英寸)圓形的任何尺寸印章和基材。該系統(tǒng)是手動裝卸印章和模板，但所有處理器都是全自動的，用軟件用戶可以完全控制壓印過程。

納米壓印機特色：

• 體積小巧，容易存放，桌面型；

• 輕微復(fù)制微米和納米結(jié)構(gòu)；

• 熱壓印溫度高達200℃；

• 可選的高溫模塊，適用于250℃；

• UV納米壓印，365nm曝光；

• 可選的UV模塊，適用于405nm曝光；

• 真空納米壓�。ㄇ皇铱沙檎婵罩�0.1mbar）；

• 納米壓印壓力高達11bar；

• 溫度分布均勻、讀數(shù)精準(zhǔn)；

• 筆記本電腦全自動控制，工藝配方編輯簡單，完全靈活控制，自動記錄數(shù)據(jù)；

• 直徑大210mm（圓形）腔室；

• 腔室高度為20mm；

• 即插即用

• 使用簡單直觀

• 為研發(fā)而設(shè)計

• 提供安裝和操作教程視頻

科研用CNI v4.0是一種非常靈活的納米壓印機。它可提供加熱型納米壓印、UV紫外納米壓印以及真空納米壓印。模塊化系統(tǒng)可根據(jù)特定需求輕松配置，體積小，容易存放，大可處理210mm(8英寸)圓形的任何尺寸印章和基材。該系統(tǒng)是手動裝卸印章和模板，但所有處理器都是全自動的，用軟件用戶可以完全控制壓印過程。

納米壓印機特色：

• 體積小巧，容易存放，桌面型；

• 輕微復(fù)制微米和納米結(jié)構(gòu)；

• 熱壓印溫度高達200℃；

• 可選的高溫模塊，適用于250℃；

• UV納米壓印，365nm曝光；

• 可選的UV模塊，適用于405nm曝光；

• 真空納米壓�。ㄇ皇铱沙檎婵罩�0.1mbar）；

• 納米壓印壓力高達11bar；

• 溫度分布均勻、讀數(shù)精準(zhǔn)；

• 筆記本電腦全自動控制，工藝配方編輯簡單，完全靈活控制，自動記錄數(shù)據(jù)；

• 直徑大210mm（圓形）腔室；

• 腔室高度為20mm；

• 即插即用

• 使用簡單直觀

• 為研發(fā)而設(shè)計

• 提供安裝和操作教程視頻