公眾號 ayiwangapp17
阿儀網(wǎng)移動端
詳細內(nèi)容
PHI Quantera II X射線光電子能譜儀是Ulvac-Phi公司以在業(yè)界獲得非常成績的Quantum 2000和Quantera SXM之上延申后所研發(fā)的XPS分析儀器，其革命性超卓技術(shù)包括有：一個*微集中掃描的X射線來源，的雙光束的電荷中和技術(shù)，在極低電壓下仍可保持高性能的離子束源以進行XPS的深度分析，一個五軸精密的樣品臺和負責全自動樣品傳送的機械手臂，與及一個*自動化且可支持互聯(lián)網(wǎng)遠程控制的儀器操作平臺。
PHI Quantera II X射線光電子能譜儀增加了這些革命性的技術(shù)性能和生產(chǎn)力，再一次提供了zui高性能的XPS系統(tǒng)，以滿足您當前和未來的XPS需要。
優(yōu)點：
容易使用：無論您是在分析一個薄膜樣品、有機聚合物、一個大的塑料鏡片，不銹鋼刀片又或是焊錫球;所有的儀器設(shè)置和設(shè)定都是*相同的。用者只需用鼠標點在一個光學圖像單擊選擇一個或多個分析地區(qū)，加上雙光束中和系統(tǒng)和自動Z-軸高度調(diào)整功能，就可以透過儀器軟件的自動隊列執(zhí)行所有分析。整個操作流程不需要任何的設(shè)定調(diào)整，不用因不一樣樣品成份而有任何顧慮，甚至也不需要有操作員整天待在儀器旁邊；一切的操作都可以自動的完成。
薄膜分析：Quantera II 不僅提供了無機薄膜樣本良好的深度剖面分析性能，而且也可以在利用C60離子槍對有機薄膜得出非常優(yōu)越的深度分析結(jié)果。
掃描 ：PHI使用了*的聚焦掃描X射線源，使XPS微區(qū)分析變得更高效。如圖4所示，X射線源是經(jīng)由聚焦電子光柵掃描并撞擊在鋁陽極上所產(chǎn)生的，而此產(chǎn)生的聚焦鋁X射線會再透過橢球形狀的單色器反射在樣品表面上。當電子束掃描在鋁陽極上時，所產(chǎn)生的X射線束在樣品上也會作出同步的掃描。X射線束的直徑大小可調(diào)范圍為7.5微米以下到400微米以上。
微區(qū)光譜：在光學顯微鏡，在這透明的聚合物薄膜表面上是沒有發(fā)現(xiàn)任何污染物的。但是如以下圖５中所示，使用二次電子影像時就立即顯示了在聚合物表面上的化污染物的存在。在短短幾分鐘內(nèi)，Quantera II儀器就可以利用一個直徑為20微米的X射線束得到確定的氟碳污染物。
關(guān)鍵詞：Quantera II PHI Quantera II X射線光電子能譜儀
K-Alpha+ 賽默飛 K-Alpha+ X射線光電子能譜儀系統(tǒng)
賽默飛 K-Alpha+ X射線光電子能譜儀系統(tǒng)是一款*集成的X射線光電子能譜。獲獎的版K-Alpha平臺特征光譜性能顯著提高，提供更高計數(shù)率和更快分析時間，改善化學探測能力。分析選配件包括一個角分辨 更多詳細Versaprobe II PHI 5000 Versaprobe II X射線光電子能譜儀
PHI 5000 Versaprobe II X射線光電子能譜儀是材料科學和發(fā)展的領(lǐng)域中zui廣泛使用的表面分析技術(shù)。其原理是利用X射線束（一般會使鋁陽極或鎂陽極）作為入射源，照射在樣品表面導致讓光電 更多詳細EscaLab 250Xi 賽默飛 EscaLab 250Xi X射線光電子能譜儀
賽默飛 EscaLab 250Xi X射線光電子能譜儀是一臺多功能高性能的表面分析儀器，它可以用于研究各種固體材料樣品表面（1-10nm厚度）的元素種類、化學價態(tài)以及相對含量。結(jié)合離子刻蝕技術(shù)還可以獲 更多詳細Nexsa 賽默飛 Nexsa™ X 射線光電子能譜儀 XPS
賽默飛 Nexsa™ X 射線光電子能譜儀 (XPS) 系統(tǒng)能提供全自動、高通量的多技術(shù)分析，并可保持研究級結(jié)果的高質(zhì)量水平。ISS、UPS、REELS、拉曼等多種分析技術(shù)集于一 更多詳細
浙公網(wǎng)安備 33010502000804號
互聯(lián)網(wǎng)藥品信息服務(wù)資格證書:(浙)-非經(jīng)營性2019-0043 增值電信業(yè)務(wù)經(jīng)營許可證：浙B2-20190746
