Quantera II PHI Quantera II X射線光電子能譜儀
PHI Quantera II X射線光電子能譜儀是Ulvac-Phi公司以在業(yè)界獲得非常成績的Quantum 2000和Quantera SXM之上延申后所研發(fā)的XPS分析儀器,其革命性超卓技術(shù)包括 更多詳細(xì)K-Alpha+ 賽默飛 K-Alpha+ X射線光電子能譜儀系統(tǒng)
賽默飛 K-Alpha+ X射線光電子能譜儀系統(tǒng)是一款*集成的X射線光電子能譜。獲獎(jiǎng)的版K-Alpha平臺(tái)特征光譜性能顯著提高,提供更高計(jì)數(shù)率和更快分析時(shí)間,改善化學(xué)探測能力。分析選配件包括一個(gè)角分辨 更多詳細(xì)Versaprobe II PHI 5000 Versaprobe II X射線光電子能譜儀
PHI 5000 Versaprobe II X射線光電子能譜儀是材料科學(xué)和發(fā)展的領(lǐng)域中zui廣泛使用的表面分析技術(shù)。其原理是利用X射線束(一般會(huì)使鋁陽極或鎂陽極)作為入射源,照射在樣品表面導(dǎo)致讓光電 更多詳細(xì)Nexsa 賽默飛 Nexsa™ X 射線光電子能譜儀 XPS
賽默飛 Nexsa™ X 射線光電子能譜儀 (XPS) 系統(tǒng)能提供全自動(dòng)、高通量的多技術(shù)分析,并可保持研究級(jí)結(jié)果的高質(zhì)量水平。ISS、UPS、REELS、拉曼等多種分析技術(shù)集于一 更多詳細(xì)