Quantera II PHI Quantera II X射線光電子能譜儀
PHI Quantera II X射線光電子能譜儀是Ulvac-Phi公司以在業(yè)界獲得非常成績(jī)的Quantum 2000和Quantera SXM之上延申后所研發(fā)的XPS分析儀器,其革命性超卓技術(shù)包括 更多詳細(xì)K-Alpha+ 賽默飛 K-Alpha+ X射線光電子能譜儀系統(tǒng)
賽默飛 K-Alpha+ X射線光電子能譜儀系統(tǒng)是一款*集成的X射線光電子能譜。獲獎(jiǎng)的版K-Alpha平臺(tái)特征光譜性能顯著提高,提供更高計(jì)數(shù)率和更快分析時(shí)間,改善化學(xué)探測(cè)能力。分析選配件包括一個(gè)角分辨 更多詳細(xì)Versaprobe II PHI 5000 Versaprobe II X射線光電子能譜儀
PHI 5000 Versaprobe II X射線光電子能譜儀是材料科學(xué)和發(fā)展的領(lǐng)域中zui廣泛使用的表面分析技術(shù)。其原理是利用X射線束(一般會(huì)使鋁陽(yáng)極或鎂陽(yáng)極)作為入射源,照射在樣品表面導(dǎo)致讓光電 更多詳細(xì)EscaLab 250Xi 賽默飛 EscaLab 250Xi X射線光電子能譜儀
賽默飛 EscaLab 250Xi X射線光電子能譜儀是一臺(tái)多功能高性能的表面分析儀器,它可以用于研究各種固體材料樣品表面(1-10nm厚度)的元素種類、化學(xué)價(jià)態(tài)以及相對(duì)含量。結(jié)合離子刻蝕技術(shù)還可以獲 更多詳細(xì)