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PHI Versaprobe 4 X射線光電子能譜儀

  • 市場價格: 電議
  • 產(chǎn)品型號:
  • 更新時間: 2025/6/12 15:17:25
  • 生產(chǎn)地: 中國大陸
  • 訪問次數(shù): 563次
  • 公司名稱: 上海斯邁歐分析儀器有限公司

企業(yè)檔案

上海斯邁歐分析儀器有限公司

7 營業(yè)執(zhí)照已上傳

企業(yè)類型:經(jīng)銷商

公司地址:上海張江高科技園區(qū)

主營產(chǎn)品:進口液質(zhì)聯(lián)用儀,液質(zhì)聯(lián)用LC-MS品牌|廠家|價格

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產(chǎn)品簡介

The PHI 5000 Versaprobe II (VP-II) 能提供高性能的微區(qū)光譜,化學(xué)成像,二次電子成像,具有離子與電子雙中和系統(tǒng),以及可以在低電壓也可工作的高效能離子槍,UPS適用于表面狀態(tài)分析,能獲得能帶結(jié)構(gòu)。

詳細內(nèi)容

詳細內(nèi)容

公司簡介

 XPS 作為一種重要的表面分析方法,廣泛應(yīng)用于固體材料表面的元素組分和化學(xué)態(tài)的研究,例如電池材料,催化劑,集成電路,半導(dǎo)體,金屬,聚合物,陶瓷和玻璃等,可滿足從研發(fā)到失效分析的廣泛分析需求。VersaPrabe4 采用了全新設(shè)計的高靈敏分析器,靈敏度是上一代的2倍,具有更低的檢測限,能夠?qū)崿F(xiàn)從微區(qū)到大面積的高靈敏度化學(xué)分析。微聚焦掃描X射線和SXI影像,通過類似SEM的SXI影響可以作為樣品導(dǎo)航,實現(xiàn)100%精準地定義微區(qū)分析位置

 

PHI Versaprobe 4 X射線光電子能譜儀應(yīng)用范圍:

包括表面的元素與化學(xué)態(tài)分析(氫和氦除外)。

表面物種的化學(xué)狀態(tài)的識別,包括有機和無機材料,導(dǎo)體和絕緣體。

深入薄膜中的組成元素分布概況,包括半導(dǎo)體、薄膜結(jié)構(gòu),磁介質(zhì)薄膜,光學(xué)鍍膜,裝飾涂料,和耐磨涂層。

在必須避免會對電子束技術(shù)有破壞性效果時的樣品成分分析。

 

3.png

XPS:固體樣品的表面組成分析,化學(xué)狀態(tài)分析,取樣訊息深度為~10nm以內(nèi). 功能包括:
1. 表面定性與定量分析. 可得到小於10um 空間分辨率的X射線光電子能譜的全譜資訊。
2. 維持10um以下的空間分辨率元素成分包括化學(xué)態(tài)的深度分析(角分辨方式,,氬離子或團簇離子刻蝕方式)
3. 線掃描或面掃描以得到線或面上的元素或化學(xué)態(tài)分布。
4. 成像功能。
5. 可進行樣品的原位處理 AES:1.可進行樣品表面的微區(qū)選點分析(包括點分析,線分析和面分析) 2.可進行深度分析適合: 納米薄膜材料,微電子材料,催化劑,摩擦化學(xué),高分子材料的表面和界面研究

 

 


關(guān)鍵詞:X射線光電子能譜儀  

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