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MetalJet液態(tài)金屬靶X射線源
Excillum公司位于瑞典都斯德哥爾摩，是家致力于研發(fā)、生產(chǎn)超高亮度微焦斑X射線光源的公司。經(jīng)過十余年的研發(fā)與改進(jìn)，Excillum掌握了先進(jìn)的液態(tài)金屬射流(MetalJet) X射線光源技術(shù)，這項(xiàng)新技術(shù)能夠帶來10倍于普通固體陽X射線光源所發(fā)射的X射線通量（在相同焦斑面積上）。正因?yàn)橐簯B(tài)金屬射流能夠承受更高功率電子束的轟擊，因而可以得到更高的X射線通量，傳統(tǒng)微焦斑X射線發(fā)生器中的固體金屬陽正在被液態(tài)金屬射流所取代！
技術(shù)介紹
1、 液態(tài)金屬射流(MetalJet) X射線光源比常規(guī)固體金屬陽光源能得到更高的X射線通量
功率負(fù)載能力
所有電子轟擊型X射線發(fā)生器的X射線強(qiáng)度都受限于陽材料的熱量承載能力。在傳統(tǒng)固體陽技術(shù)中，為了避免陽損壞,其表面的工作溫度**遠(yuǎn)低于靶材的熔點(diǎn)，因此靶材的各種物理性質(zhì)，如熔點(diǎn)、導(dǎo)熱系數(shù)等大地限制了電子束功率的范圍。液態(tài)金屬陽則大為不同，因?yàn)槟切┓乐拱胁娜刍拇胧┒疾豁氁�，這得益于靶材本身已處于熔化的狀態(tài)以及其不斷自**的特點(diǎn)。完好如初的液態(tài)靶材以接近100m/s的速度在腔體內(nèi)循環(huán)。由于陽不斷地自**，電子束對(duì)靶材的損壞將微乎其微。
高的亮度
某種程度上，微焦斑X射線發(fā)生器的功率承載能力大致與焦斑的直徑而不是面積成比例。因此，光源的亮度反比于焦斑的直徑。 通過將高的功率承載能力以及小的電子束焦斑相結(jié)合，液態(tài)金屬射流光源能夠在微米的焦斑上實(shí)現(xiàn)空的高亮度。
2、功率負(fù)載能力
3、液態(tài)金屬的X射線光譜
為了得到不同的X射線發(fā)射譜線，我們使用了不同的金屬合金。對(duì)于代的MetalJet光源，其特點(diǎn)在于靶材在室溫附近就已經(jīng)熔化。但為了得到多樣的特征譜線以代替現(xiàn)有的常規(guī)固體陽，在將來我們還將開發(fā)更多種類的合金材料，即使它們的熔點(diǎn)會(huì)更高。
鎵(Ga)合金 目可選的有富含鎵(Ga)的合金。其Kα發(fā)射譜線能量為9.2keV, 對(duì)應(yīng)波長約為1.35 ?, 類似于銅靶的Kα波長。
銦(In)合金 同樣可選的還有富含銦（In）的合金。其Kα發(fā)射譜線能量為24.2keV，對(duì)應(yīng)波長約為0.51 ?，類似于銀靶的Kα波長
4、焦斑質(zhì)量和尺寸
焦斑質(zhì)量 歸功于先進(jìn)的電磁聚焦、光路校正技術(shù)以及高亮度LaB6陰，高質(zhì)量的電子束焦斑得以實(shí)現(xiàn)，將其與連續(xù)**的光滑液態(tài)靶材表面相結(jié)合，整個(gè)光源便能產(chǎn)生超高質(zhì)量的X射線焦斑。
可調(diào)的尺寸 焦斑的尺寸與高寬比均可被自由調(diào)整
5、光源的穩(wěn)定性
光源有著相當(dāng)高的空間穩(wěn)定性。圖為附加在光源上的針孔相機(jī)所拍攝的焦點(diǎn)位置分布圖，如其所示焦斑在24小時(shí)內(nèi)距中心的標(biāo)準(zhǔn)偏差在0.1μm以下。
部分應(yīng)用案例
1.散射/衍射
小角度X射線散射（SAXS）—金屬材料和膠體
斯洛伐克科學(xué)院和斯洛伐克理工大學(xué)納米診斷中心的研究人員在種應(yīng)變儀上進(jìn)行原位測(cè)試，由SAXS監(jiān)控，其中液態(tài)金屬射流的高亮度允許進(jìn)行非�？斓臄�(shù)據(jù)收集，具有10的時(shí)間分辨率。
2、X射線光譜學(xué)/熒光學(xué)
基于液態(tài)金屬射流源（MetalJet）的HAXPES-Lab
(a) 用于晶體管和二管制造的單氧化物結(jié)構(gòu) (b-f) 用HAXPES-Lab測(cè)量核心層。
3、X射線成像
相位對(duì)比成像
舉個(gè)簡單的例子，說明通過物體的相移如何擾動(dòng)波。波不能直接測(cè)量，但在這里轉(zhuǎn)換成段距離的強(qiáng)度變化。對(duì)比度來自吸收和相位。相移帶來的邊緣增強(qiáng)在所有輪廓上都很明顯。
Excillum公司位于瑞典都斯德哥爾摩，是家致力于研發(fā)、生產(chǎn)超高亮度微焦斑X射線光源的公司。經(jīng)過十余年的研發(fā)與改進(jìn)，Excillum掌握了先進(jìn)的液態(tài)金屬射流(MetalJet) X射線光源技術(shù)，這項(xiàng)新技術(shù)能夠帶來10倍于普通固體陽X射線光源所發(fā)射的X射線通量（在相同焦斑面積上）。正因?yàn)橐簯B(tài)金屬射流能夠承受更高功率電子束的轟擊，因而可以得到更高的X射線通量，傳統(tǒng)微焦斑X射線發(fā)生器中的固體金屬陽正在被液態(tài)金屬射流所取代！
技術(shù)介紹
1、 液態(tài)金屬射流(MetalJet) X射線光源比常規(guī)固體金屬陽光源能得到更高的X射線通量
功率負(fù)載能力
所有電子轟擊型X射線發(fā)生器的X射線強(qiáng)度都受限于陽材料的熱量承載能力。在傳統(tǒng)固體陽技術(shù)中，為了避免陽損壞,其表面的工作溫度**遠(yuǎn)低于靶材的熔點(diǎn)，因此靶材的各種物理性質(zhì)，如熔點(diǎn)、導(dǎo)熱系數(shù)等大地限制了電子束功率的范圍。液態(tài)金屬陽則大為不同，因?yàn)槟切┓乐拱胁娜刍拇胧┒疾豁氁�，這得益于靶材本身已處于熔化的狀態(tài)以及其不斷自**的特點(diǎn)。完好如初的液態(tài)靶材以接近100m/s的速度在腔體內(nèi)循環(huán)。由于陽不斷地自**，電子束對(duì)靶材的損壞將微乎其微。
高的亮度
某種程度上，微焦斑X射線發(fā)生器的功率承載能力大致與焦斑的直徑而不是面積成比例。因此，光源的亮度反比于焦斑的直徑。 通過將高的功率承載能力以及小的電子束焦斑相結(jié)合，液態(tài)金屬射流光源能夠在微米的焦斑上實(shí)現(xiàn)空的高亮度。
2、功率負(fù)載能力
3、液態(tài)金屬的X射線光譜
為了得到不同的X射線發(fā)射譜線，我們使用了不同的金屬合金。對(duì)于代的MetalJet光源，其特點(diǎn)在于靶材在室溫附近就已經(jīng)熔化。但為了得到多樣的特征譜線以代替現(xiàn)有的常規(guī)固體陽，在將來我們還將開發(fā)更多種類的合金材料，即使它們的熔點(diǎn)會(huì)更高。
鎵(Ga)合金 目可選的有富含鎵(Ga)的合金。其Kα發(fā)射譜線能量為9.2keV, 對(duì)應(yīng)波長約為1.35 ?, 類似于銅靶的Kα波長。
銦(In)合金 同樣可選的還有富含銦（In）的合金。其Kα發(fā)射譜線能量為24.2keV，對(duì)應(yīng)波長約為0.51 ?，類似于銀靶的Kα波長
4、焦斑質(zhì)量和尺寸
焦斑質(zhì)量 歸功于先進(jìn)的電磁聚焦、光路校正技術(shù)以及高亮度LaB6陰，高質(zhì)量的電子束焦斑得以實(shí)現(xiàn)，將其與連續(xù)**的光滑液態(tài)靶材表面相結(jié)合，整個(gè)光源便能產(chǎn)生超高質(zhì)量的X射線焦斑。
可調(diào)的尺寸 焦斑的尺寸與高寬比均可被自由調(diào)整
5、光源的穩(wěn)定性
光源有著相當(dāng)高的空間穩(wěn)定性。圖為附加在光源上的針孔相機(jī)所拍攝的焦點(diǎn)位置分布圖，如其所示焦斑在24小時(shí)內(nèi)距中心的標(biāo)準(zhǔn)偏差在0.1μm以下。
部分應(yīng)用案例
1.散射/衍射
小角度X射線散射（SAXS）—金屬材料和膠體
斯洛伐克科學(xué)院和斯洛伐克理工大學(xué)納米診斷中心的研究人員在種應(yīng)變儀上進(jìn)行原位測(cè)試，由SAXS監(jiān)控，其中液態(tài)金屬射流的高亮度允許進(jìn)行非�？斓臄�(shù)據(jù)收集，具有10的時(shí)間分辨率。
2、X射線光譜學(xué)/熒光學(xué)
基于液態(tài)金屬射流源（MetalJet）的HAXPES-Lab
(a) 用于晶體管和二管制造的單氧化物結(jié)構(gòu) (b-f) 用HAXPES-Lab測(cè)量核心層。
3、X射線成像
相位對(duì)比成像
舉個(gè)簡單的例子，說明通過物體的相移如何擾動(dòng)波。波不能直接測(cè)量，但在這里轉(zhuǎn)換成段距離的強(qiáng)度變化。對(duì)比度來自吸收和相位。相移帶來的邊緣增強(qiáng)在所有輪廓上都很明顯。
Excillum公司位于瑞典都斯德哥爾摩，是家致力于研發(fā)、生產(chǎn)超高亮度微焦斑X射線光源的公司。經(jīng)過十余年的研發(fā)與改進(jìn)，Excillum掌握了先進(jìn)的液態(tài)金屬射流(MetalJet) X射線光源技術(shù)，這項(xiàng)新技術(shù)能夠帶來10倍于普通固體陽X射線光源所發(fā)射的X射線通量（在相同焦斑面積上）。正因?yàn)橐簯B(tài)金屬射流能夠承受更高功率電子束的轟擊，因而可以得到更高的X射線通量，傳統(tǒng)微焦斑X射線發(fā)生器中的固體金屬陽正在被液態(tài)金屬射流所取代！
技術(shù)介紹
1、 液態(tài)金屬射流(MetalJet) X射線光源比常規(guī)固體金屬陽光源能得到更高的X射線通量
功率負(fù)載能力
所有電子轟擊型X射線發(fā)生器的X射線強(qiáng)度都受限于陽材料的熱量承載能力。在傳統(tǒng)固體陽技術(shù)中，為了避免陽損壞,其表面的工作溫度**遠(yuǎn)低于靶材的熔點(diǎn)，因此靶材的各種物理性質(zhì)，如熔點(diǎn)、導(dǎo)熱系數(shù)等大地限制了電子束功率的范圍。液態(tài)金屬陽則大為不同，因?yàn)槟切┓乐拱胁娜刍拇胧┒疾豁氁�，這得益于靶材本身已處于熔化的狀態(tài)以及其不斷自**的特點(diǎn)。完好如初的液態(tài)靶材以接近100m/s的速度在腔體內(nèi)循環(huán)。由于陽不斷地自**，電子束對(duì)靶材的損壞將微乎其微。
高的亮度
某種程度上，微焦斑X射線發(fā)生器的功率承載能力大致與焦斑的直徑而不是面積成比例。因此，光源的亮度反比于焦斑的直徑。 通過將高的功率承載能力以及小的電子束焦斑相結(jié)合，液態(tài)金屬射流光源能夠在微米的焦斑上實(shí)現(xiàn)空的高亮度。
2、功率負(fù)載能力
3、液態(tài)金屬的X射線光譜
為了得到不同的X射線發(fā)射譜線，我們使用了不同的金屬合金。對(duì)于代的MetalJet光源，其特點(diǎn)在于靶材在室溫附近就已經(jīng)熔化。但為了得到多樣的特征譜線以代替現(xiàn)有的常規(guī)固體陽，在將來我們還將開發(fā)更多種類的合金材料，即使它們的熔點(diǎn)會(huì)更高。
鎵(Ga)合金 目可選的有富含鎵(Ga)的合金。其Kα發(fā)射譜線能量為9.2keV, 對(duì)應(yīng)波長約為1.35 ?, 類似于銅靶的Kα波長。
銦(In)合金 同樣可選的還有富含銦（In）的合金。其Kα發(fā)射譜線能量為24.2keV，對(duì)應(yīng)波長約為0.51 ?，類似于銀靶的Kα波長
4、焦斑質(zhì)量和尺寸
焦斑質(zhì)量 歸功于先進(jìn)的電磁聚焦、光路校正技術(shù)以及高亮度LaB6陰，高質(zhì)量的電子束焦斑得以實(shí)現(xiàn)，將其與連續(xù)**的光滑液態(tài)靶材表面相結(jié)合，整個(gè)光源便能產(chǎn)生超高質(zhì)量的X射線焦斑。
可調(diào)的尺寸 焦斑的尺寸與高寬比均可被自由調(diào)整
5、光源的穩(wěn)定性
光源有著相當(dāng)高的空間穩(wěn)定性。圖為附加在光源上的針孔相機(jī)所拍攝的焦點(diǎn)位置分布圖，如其所示焦斑在24小時(shí)內(nèi)距中心的標(biāo)準(zhǔn)偏差在0.1μm以下。
部分應(yīng)用案例
1.散射/衍射
小角度X射線散射（SAXS）—金屬材料和膠體
斯洛伐克科學(xué)院和斯洛伐克理工大學(xué)納米診斷中心的研究人員在種應(yīng)變儀上進(jìn)行原位測(cè)試，由SAXS監(jiān)控，其中液態(tài)金屬射流的高亮度允許進(jìn)行非常快的數(shù)據(jù)收集，具有10的時(shí)間分辨率。
2、X射線光譜學(xué)/熒光學(xué)
基于液態(tài)金屬射流源（MetalJet）的HAXPES-Lab
(a) 用于晶體管和二管制造的單氧化物結(jié)構(gòu) (b-f) 用HAXPES-Lab測(cè)量核心層。
3、X射線成像
相位對(duì)比成像
舉個(gè)簡單的例子，說明通過物體的相移如何擾動(dòng)波。波不能直接測(cè)量，但在這里轉(zhuǎn)換成段距離的強(qiáng)度變化。對(duì)比度來自吸收和相位。相移帶來的邊緣增強(qiáng)在所有輪廓上都很明顯。
Excillum公司位于瑞典都斯德哥爾摩，是家致力于研發(fā)、生產(chǎn)超高亮度微焦斑X射線光源的公司。經(jīng)過十余年的研發(fā)與改進(jìn)，Excillum掌握了先進(jìn)的液態(tài)金屬射流(MetalJet) X射線光源技術(shù)，這項(xiàng)新技術(shù)能夠帶來10倍于普通固體陽X射線光源所發(fā)射的X射線通量（在相同焦斑面積上）。正因?yàn)橐簯B(tài)金屬射流能夠承受更高功率電子束的轟擊，因而可以得到更高的X射線通量，傳統(tǒng)微焦斑X射線發(fā)生器中的固體金屬陽正在被液態(tài)金屬射流所取代！
技術(shù)介紹
1、 液態(tài)金屬射流(MetalJet) X射線光源比常規(guī)固體金屬陽光源能得到更高的X射線通量
功率負(fù)載能力
所有電子轟擊型X射線發(fā)生器的X射線強(qiáng)度都受限于陽材料的熱量承載能力。在傳統(tǒng)固體陽技術(shù)中，為了避免陽損壞,其表面的工作溫度**遠(yuǎn)低于靶材的熔點(diǎn)，因此靶材的各種物理性質(zhì)，如熔點(diǎn)、導(dǎo)熱系數(shù)等大地限制了電子束功率的范圍。液態(tài)金屬陽則大為不同，因?yàn)槟切┓乐拱胁娜刍拇胧┒疾豁氁�，這得益于靶材本身已處于熔化的狀態(tài)以及其不斷自**的特點(diǎn)。完好如初的液態(tài)靶材以接近100m/s的速度在腔體內(nèi)循環(huán)。由于陽不斷地自**，電子束對(duì)靶材的損壞將微乎其微。
高的亮度
某種程度上，微焦斑X射線發(fā)生器的功率承載能力大致與焦斑的直徑而不是面積成比例。因此，光源的亮度反比于焦斑的直徑。 通過將高的功率承載能力以及小的電子束焦斑相結(jié)合，液態(tài)金屬射流光源能夠在微米的焦斑上實(shí)現(xiàn)空的高亮度。
2、功率負(fù)載能力
3、液態(tài)金屬的X射線光譜
為了得到不同的X射線發(fā)射譜線，我們使用了不同的金屬合金。對(duì)于代的MetalJet光源，其特點(diǎn)在于靶材在室溫附近就已經(jīng)熔化。但為了得到多樣的特征譜線以代替現(xiàn)有的常規(guī)固體陽，在將來我們還將開發(fā)更多種類的合金材料，即使它們的熔點(diǎn)會(huì)更高。
鎵(Ga)合金 目可選的有富含鎵(Ga)的合金。其Kα發(fā)射譜線能量為9.2keV, 對(duì)應(yīng)波長約為1.35 ?, 類似于銅靶的Kα波長。
銦(In)合金 同樣可選的還有富含銦（In）的合金。其Kα發(fā)射譜線能量為24.2keV，對(duì)應(yīng)波長約為0.51 ?，類似于銀靶的Kα波長
4、焦斑質(zhì)量和尺寸
焦斑質(zhì)量 歸功于先進(jìn)的電磁聚焦、光路校正技術(shù)以及高亮度LaB6陰，高質(zhì)量的電子束焦斑得以實(shí)現(xiàn)，將其與連續(xù)**的光滑液態(tài)靶材表面相結(jié)合，整個(gè)光源便能產(chǎn)生超高質(zhì)量的X射線焦斑。
可調(diào)的尺寸 焦斑的尺寸與高寬比均可被自由調(diào)整
5、光源的穩(wěn)定性
光源有著相當(dāng)高的空間穩(wěn)定性。圖為附加在光源上的針孔相機(jī)所拍攝的焦點(diǎn)位置分布圖，如其所示焦斑在24小時(shí)內(nèi)距中心的標(biāo)準(zhǔn)偏差在0.1μm以下。
部分應(yīng)用案例
1.散射/衍射
小角度X射線散射（SAXS）—金屬材料和膠體
斯洛伐克科學(xué)院和斯洛伐克理工大學(xué)納米診斷中心的研究人員在種應(yīng)變儀上進(jìn)行原位測(cè)試，由SAXS監(jiān)控，其中液態(tài)金屬射流的高亮度允許進(jìn)行非�？斓臄�(shù)據(jù)收集，具有10的時(shí)間分辨率。
2、X射線光譜學(xué)/熒光學(xué)
基于液態(tài)金屬射流源（MetalJet）的HAXPES-Lab
(a) 用于晶體管和二管制造的單氧化物結(jié)構(gòu) (b-f) 用HAXPES-Lab測(cè)量核心層。
3、X射線成像
相位對(duì)比成像
舉個(gè)簡單的例子，說明通過物體的相移如何擾動(dòng)波。波不能直接測(cè)量，但在這里轉(zhuǎn)換成段距離的強(qiáng)度變化。對(duì)比度來自吸收和相位。相移帶來的邊緣增強(qiáng)在所有輪廓上都很明顯。Excillum公司位于瑞典都斯德哥爾摩，是家致力于研發(fā)、生產(chǎn)超高亮度微焦斑X射線光源的公司。經(jīng)過十余年的研發(fā)與改進(jìn)，Excillum掌握了先進(jìn)的液態(tài)金屬射流(MetalJet) X射線光源技術(shù)，這項(xiàng)新技術(shù)能夠帶來10倍于普通固體陽X射線光源所發(fā)射的X射線通量（在相同焦斑面積上）。正因?yàn)橐簯B(tài)金屬射流能夠承受更高功率電子束的轟擊，因而可以得到更高的X射線通量，傳統(tǒng)微焦斑X射線發(fā)生器中的固體金屬陽正在被液態(tài)金屬射流所取代！
技術(shù)介紹
1、 液態(tài)金屬射流(MetalJet) X射線光源比常規(guī)固體金屬陽光源能得到更高的X射線通量
功率負(fù)載能力
所有電子轟擊型X射線發(fā)生器的X射線強(qiáng)度都受限于陽材料的熱量承載能力。在傳統(tǒng)固體陽技術(shù)中，為了避免陽損壞,其表面的工作溫度**遠(yuǎn)低于靶材的熔點(diǎn)，因此靶材的各種物理性質(zhì)，如熔點(diǎn)、導(dǎo)熱系數(shù)等大地限制了電子束功率的范圍。液態(tài)金屬陽則大為不同，因?yàn)槟切┓乐拱胁娜刍拇胧┒疾豁氁耍@得益于靶材本身已處于熔化的狀態(tài)以及其不斷自**的特點(diǎn)。完好如初的液態(tài)靶材以接近100m/s的速度在腔體內(nèi)循環(huán)。由于陽不斷地自**，電子束對(duì)靶材的損壞將微乎其微。
高的亮度
某種程度上，微焦斑X射線發(fā)生器的功率承載能力大致與焦斑的直徑而不是面積成比例。因此，光源的亮度反比于焦斑的直徑。 通過將高的功率承載能力以及小的電子束焦斑相結(jié)合，液態(tài)金屬射流光源能夠在微米的焦斑上實(shí)現(xiàn)空的高亮度。
2、功率負(fù)載能力
3、液態(tài)金屬的X射線光譜
為了得到不同的X射線發(fā)射譜線，我們使用了不同的金屬合金。對(duì)于代的MetalJet光源，其特點(diǎn)在于靶材在室溫附近就已經(jīng)熔化。但為了得到多樣的特征譜線以代替現(xiàn)有的常規(guī)固體陽，在將來我們還將開發(fā)更多種類的合金材料，即使它們的熔點(diǎn)會(huì)更高。
鎵(Ga)合金 目可選的有富含鎵(Ga)的合金。其Kα發(fā)射譜線能量為9.2keV, 對(duì)應(yīng)波長約為1.35 ?, 類似于銅靶的Kα波長。
銦(In)合金 同樣可選的還有富含銦（In）的合金。其Kα發(fā)射譜線能量為24.2keV，對(duì)應(yīng)波長約為0.51 ?，類似于銀靶的Kα波長
4、焦斑質(zhì)量和尺寸
焦斑質(zhì)量 歸功于先進(jìn)的電磁聚焦、光路校正技術(shù)以及高亮度LaB6陰，高質(zhì)量的電子束焦斑得以實(shí)現(xiàn)，將其與連續(xù)**的光滑液態(tài)靶材表面相結(jié)合，整個(gè)光源便能產(chǎn)生超高質(zhì)量的X射線焦斑。
可調(diào)的尺寸 焦斑的尺寸與高寬比均可被自由調(diào)整
5、光源的穩(wěn)定性
光源有著相當(dāng)高的空間穩(wěn)定性。圖為附加在光源上的針孔相機(jī)所拍攝的焦點(diǎn)位置分布圖，如其所示焦斑在24小時(shí)內(nèi)距中心的標(biāo)準(zhǔn)偏差在0.1μm以下。
部分應(yīng)用案例
1.散射/衍射
小角度X射線散射（SAXS）—金屬材料和膠體
斯洛伐克科學(xué)院和斯洛伐克理工大學(xué)納米診斷中心的研究人員在種應(yīng)變儀上進(jìn)行原位測(cè)試，由SAXS監(jiān)控，其中液態(tài)金屬射流的高亮度允許進(jìn)行非常快的數(shù)據(jù)收集，具有10的時(shí)間分辨率。
2、X射線光譜學(xué)/熒光學(xué)
基于液態(tài)金屬射流源（MetalJet）的HAXPES-Lab
(a) 用于晶體管和二管制造的單氧化物結(jié)構(gòu) (b-f) 用HAXPES-Lab測(cè)量核心層。
3、X射線成像
相位對(duì)比成像
舉個(gè)簡單的例子，說明通過物體的相移如何擾動(dòng)波。波不能直接測(cè)量，但在這里轉(zhuǎn)換成段距離的強(qiáng)度變化。對(duì)比度來自吸收和相位。相移帶來的邊緣增強(qiáng)在所有輪廓上都很明顯。Excillum公司位于瑞典都斯德哥爾摩，是家致力于研發(fā)、生產(chǎn)超高亮度微焦斑X射線光源的公司。經(jīng)過十余年的研發(fā)與改進(jìn)，Excillum掌握了先進(jìn)的液態(tài)金屬射流(MetalJet) X射線光源技術(shù)，這項(xiàng)新技術(shù)能夠帶來10倍于普通固體陽X射線光源所發(fā)射的X射線通量（在相同焦斑面積上）。正因?yàn)橐簯B(tài)金屬射流能夠承受更高功率電子束的轟擊，因而可以得到更高的X射線通量，傳統(tǒng)微焦斑X射線發(fā)生器中的固體金屬陽正在被液態(tài)金屬射流所取代！
技術(shù)介紹
1、 液態(tài)金屬射流(MetalJet) X射線光源比常規(guī)固體金屬陽光源能得到更高的X射線通量
功率負(fù)載能力
所有電子轟擊型X射線發(fā)生器的X射線強(qiáng)度都受限于陽材料的熱量承載能力。在傳統(tǒng)固體陽技術(shù)中，為了避免陽損壞,其表面的工作溫度**遠(yuǎn)低于靶材的熔點(diǎn)，因此靶材的各種物理性質(zhì)，如熔點(diǎn)、導(dǎo)熱系數(shù)等大地限制了電子束功率的范圍。液態(tài)金屬陽則大為不同，因?yàn)槟切┓乐拱胁娜刍拇胧┒疾豁氁�，這得益于靶材本身已處于熔化的狀態(tài)以及其不斷自**的特點(diǎn)。完好如初的液態(tài)靶材以接近100m/s的速度在腔體內(nèi)循環(huán)。由于陽不斷地自**，電子束對(duì)靶材的損壞將微乎其微。
高的亮度
某種程度上，微焦斑X射線發(fā)生器的功率承載能力大致與焦斑的直徑而不是面積成比例。因此，光源的亮度反比于焦斑的直徑。 通過將高的功率承載能力以及小的電子束焦斑相結(jié)合，液態(tài)金屬射流光源能夠在微米的焦斑上實(shí)現(xiàn)空的高亮度。
2、功率負(fù)載能力
3、液態(tài)金屬的X射線光譜
為了得到不同的X射線發(fā)射譜線，我們使用了不同的金屬合金。對(duì)于代的MetalJet光源，其特點(diǎn)在于靶材在室溫附近就已經(jīng)熔化。但為了得到多樣的特征譜線以代替現(xiàn)有的常規(guī)固體陽，在將來我們還將開發(fā)更多種類的合金材料，即使它們的熔點(diǎn)會(huì)更高。
鎵(Ga)合金 目可選的有富含鎵(Ga)的合金。其Kα發(fā)射譜線能量為9.2keV, 對(duì)應(yīng)波長約為1.35 ?, 類似于銅靶的Kα波長。
銦(In)合金 同樣可選的還有富含銦（In）的合金。其Kα發(fā)射譜線能量為24.2keV，對(duì)應(yīng)波長約為0.51 ?，類似于銀靶的Kα波長
4、焦斑質(zhì)量和尺寸
焦斑質(zhì)量 歸功于先進(jìn)的電磁聚焦、光路校正技術(shù)以及高亮度LaB6陰，高質(zhì)量的電子束焦斑得以實(shí)現(xiàn)，將其與連續(xù)**的光滑液態(tài)靶材表面相結(jié)合，整個(gè)光源便能產(chǎn)生超高質(zhì)量的X射線焦斑。
可調(diào)的尺寸 焦斑的尺寸與高寬比均可被自由調(diào)整
5、光源的穩(wěn)定性
光源有著相當(dāng)高的空間穩(wěn)定性。圖為附加在光源上的針孔相機(jī)所拍攝的焦點(diǎn)位置分布圖，如其所示焦斑在24小時(shí)內(nèi)距中心的標(biāo)準(zhǔn)偏差在0.1μm以下。
部分應(yīng)用案例
1.散射/衍射
小角度X射線散射（SAXS）—金屬材料和膠體
斯洛伐克科學(xué)院和斯洛伐克理工大學(xué)納米診斷中心的研究人員在種應(yīng)變儀上進(jìn)行原位測(cè)試，由SAXS監(jiān)控，其中液態(tài)金屬射流的高亮度允許進(jìn)行非�？斓臄�(shù)據(jù)收集，具有10的時(shí)間分辨率。
2、X射線光譜學(xué)/熒光學(xué)
基于液態(tài)金屬射流源（MetalJet）的HAXPES-Lab
(a) 用于晶體管和二管制造的單氧化物結(jié)構(gòu) (b-f) 用HAXPES-Lab測(cè)量核心層。
3、X射線成像
相位對(duì)比成像
舉個(gè)簡單的例子，說明通過物體的相移如何擾動(dòng)波。波不能直接測(cè)量，但在這里轉(zhuǎn)換成段距離的強(qiáng)度變化。對(duì)比度來自吸收和相位。相移帶來的邊緣增強(qiáng)在所有輪廓上都很明顯。Excillum公司位于瑞典都斯德哥爾摩，是家致力于研發(fā)、生產(chǎn)超高亮度微焦斑X射線光源的公司。經(jīng)過十余年的研發(fā)與改進(jìn)，Excillum掌握了先進(jìn)的液態(tài)金屬射流(MetalJet) X射線光源技術(shù)，這項(xiàng)新技術(shù)能夠帶來10倍于普通固體陽X射線光源所發(fā)射的X射線通量（在相同焦斑面積上）。正因?yàn)橐簯B(tài)金屬射流能夠承受更高功率電子束的轟擊，因而可以得到更高的X射線通量，傳統(tǒng)微焦斑X射線發(fā)生器中的固體金屬陽正在被液態(tài)金屬射流所取代！
技術(shù)介紹
1、 液態(tài)金屬射流(MetalJet) X射線光源比常規(guī)固體金屬陽光源能得到更高的X射線通量
功率負(fù)載能力
所有電子轟擊型X射線發(fā)生器的X射線強(qiáng)度都受限于陽材料的熱量承載能力。在傳統(tǒng)固體陽技術(shù)中，為了避免陽損壞,其表面的工作溫度**遠(yuǎn)低于靶材的熔點(diǎn)，因此靶材的各種物理性質(zhì)，如熔點(diǎn)、導(dǎo)熱系數(shù)等大地限制了電子束功率的范圍。液態(tài)金屬陽則大為不同，因?yàn)槟切┓乐拱胁娜刍拇胧┒疾豁氁�，這得益于靶材本身已處于熔化的狀態(tài)以及其不斷自**的特點(diǎn)。完好如初的液態(tài)靶材以接近100m/s的速度在腔體內(nèi)循環(huán)。由于陽不斷地自**，電子束對(duì)靶材的損壞將微乎其微。
高的亮度
某種程度上，微焦斑X射線發(fā)生器的功率承載能力大致與焦斑的直徑而不是面積成比例。因此，光源的亮度反比于焦斑的直徑。 通過將高的功率承載能力以及小的電子束焦斑相結(jié)合，液態(tài)金屬射流光源能夠在微米的焦斑上實(shí)現(xiàn)空的高亮度。
2、功率負(fù)載能力
3、液態(tài)金屬的X射線光譜
為了得到不同的X射線發(fā)射譜線，我們使用了不同的金屬合金。對(duì)于代的MetalJet光源，其特點(diǎn)在于靶材在室溫附近就已經(jīng)熔化。但為了得到多樣的特征譜線以代替現(xiàn)有的常規(guī)固體陽，在將來我們還將開發(fā)更多種類的合金材料，即使它們的熔點(diǎn)會(huì)更高。
鎵(Ga)合金 目可選的有富含鎵(Ga)的合金。其Kα發(fā)射譜線能量為9.2keV, 對(duì)應(yīng)波長約為1.35 ?, 類似于銅靶的Kα波長。
銦(In)合金 同樣可選的還有富含銦（In）的合金。其Kα發(fā)射譜線能量為24.2keV，對(duì)應(yīng)波長約為0.51 ?，類似于銀靶的Kα波長
4、焦斑質(zhì)量和尺寸
焦斑質(zhì)量 歸功于先進(jìn)的電磁聚焦、光路校正技術(shù)以及高亮度LaB6陰，高質(zhì)量的電子束焦斑得以實(shí)現(xiàn)，將其與連續(xù)**的光滑液態(tài)靶材表面相結(jié)合，整個(gè)光源便能產(chǎn)生超高質(zhì)量的X射線焦斑。
可調(diào)的尺寸 焦斑的尺寸與高寬比均可被自由調(diào)整
5、光源的穩(wěn)定性
光源有著相當(dāng)高的空間穩(wěn)定性。圖為附加在光源上的針孔相機(jī)所拍攝的焦點(diǎn)位置分布圖，如其所示焦斑在24小時(shí)內(nèi)距中心的標(biāo)準(zhǔn)偏差在0.1μm以下。
部分應(yīng)用案例
1.散射/衍射
小角度X射線散射（SAXS）—金屬材料和膠體
斯洛伐克科學(xué)院和斯洛伐克理工大學(xué)納米診斷中心的研究人員在種應(yīng)變儀上進(jìn)行原位測(cè)試，由SAXS監(jiān)控，其中液態(tài)金屬射流的高亮度允許進(jìn)行非�？斓臄�(shù)據(jù)收集，具有10的時(shí)間分辨率。
2、X射線光譜學(xué)/熒光學(xué)
基于液態(tài)金屬射流源（MetalJet）的HAXPES-Lab
(a) 用于晶體管和二管制造的單氧化物結(jié)構(gòu) (b-f) 用HAXPES-Lab測(cè)量核心層。
3、X射線成像
相位對(duì)比成像
舉個(gè)簡單的例子，說明通過物體的相移如何擾動(dòng)波。波不能直接測(cè)量，但在這里轉(zhuǎn)換成段距離的強(qiáng)度變化。對(duì)比度來自吸收和相位。相移帶來的邊緣增強(qiáng)在所有輪廓上都很明顯。
Excillum公司位于瑞典都斯德哥爾摩，是家致力于研發(fā)、生產(chǎn)超高亮度微焦斑X射線光源的公司。經(jīng)過十余年的研發(fā)與改進(jìn)，Excillum掌握了先進(jìn)的液態(tài)金屬射流(MetalJet) X射線光源技術(shù)，這項(xiàng)新技術(shù)能夠帶來10倍于普通固體陽X射線光源所發(fā)射的X射線通量（在相同焦斑面積上）。正因?yàn)橐簯B(tài)金屬射流能夠承受更高功率電子束的轟擊，因而可以得到更高的X射線通量，傳統(tǒng)微焦斑X射線發(fā)生器中的固體金屬陽正在被液態(tài)金屬射流所取代！
技術(shù)介紹
1、 液態(tài)金屬射流(MetalJet) X射線光源比常規(guī)固體金屬陽光源能得到更高的X射線通量
功率負(fù)載能力
所有電子轟擊型X射線發(fā)生器的X射線強(qiáng)度都受限于陽材料的熱量承載能力。在傳統(tǒng)固體陽技術(shù)中，為了避免陽損壞,其表面的工作溫度**遠(yuǎn)低于靶材的熔點(diǎn)，因此靶材的各種物理性質(zhì)，如熔點(diǎn)、導(dǎo)熱系數(shù)等大地限制了電子束功率的范圍。液態(tài)金屬陽則大為不同，因?yàn)槟切┓乐拱胁娜刍拇胧┒疾豁氁�，這得益于靶材本身已處于熔化的狀態(tài)以及其不斷自**的特點(diǎn)。完好如初的液態(tài)靶材以接近100m/s的速度在腔體內(nèi)循環(huán)。由于陽不斷地自**，電子束對(duì)靶材的損壞將微乎其微。
高的亮度
某種程度上，微焦斑X射線發(fā)生器的功率承載能力大致與焦斑的直徑而不是面積成比例。因此，光源的亮度反比于焦斑的直徑。 通過將高的功率承載能力以及小的電子束焦斑相結(jié)合，液態(tài)金屬射流光源能夠在微米的焦斑上實(shí)現(xiàn)空的高亮度。
2、功率負(fù)載能力
3、液態(tài)金屬的X射線光譜
為了得到不同的X射線發(fā)射譜線，我們使用了不同的金屬合金。對(duì)于代的MetalJet光源，其特點(diǎn)在于靶材在室溫附近就已經(jīng)熔化。但為了得到多樣的特征譜線以代替現(xiàn)有的常規(guī)固體陽，在將來我們還將開發(fā)更多種類的合金材料，即使它們的熔點(diǎn)會(huì)更高。
鎵(Ga)合金 目可選的有富含鎵(Ga)的合金。其Kα發(fā)射譜線能量為9.2keV, 對(duì)應(yīng)波長約為1.35 ?, 類似于銅靶的Kα波長。
銦(In)合金 同樣可選的還有富含銦（In）的合金。其Kα發(fā)射譜線能量為24.2keV，對(duì)應(yīng)波長約為0.51 ?，類似于銀靶的Kα波長
4、焦斑質(zhì)量和尺寸
焦斑質(zhì)量 歸功于先進(jìn)的電磁聚焦、光路校正技術(shù)以及高亮度LaB6陰，高質(zhì)量的電子束焦斑得以實(shí)現(xiàn)，將其與連續(xù)**的光滑液態(tài)靶材表面相結(jié)合，整個(gè)光源便能產(chǎn)生超高質(zhì)量的X射線焦斑。
可調(diào)的尺寸 焦斑的尺寸與高寬比均可被自由調(diào)整
5、光源的穩(wěn)定性
光源有著相當(dāng)高的空間穩(wěn)定性。圖為附加在光源上的針孔相機(jī)所拍攝的焦點(diǎn)位置分布圖，如其所示焦斑在24小時(shí)內(nèi)距中心的標(biāo)準(zhǔn)偏差在0.1μm以下。
部分應(yīng)用案例
1.散射/衍射
小角度X射線散射（SAXS）—金屬材料和膠體
斯洛伐克科學(xué)院和斯洛伐克理工大學(xué)納米診斷中心的研究人員在種應(yīng)變儀上進(jìn)行原位測(cè)試，由SAXS監(jiān)控，其中液態(tài)金屬射流的高亮度允許進(jìn)行非常快的數(shù)據(jù)收集，具有10的時(shí)間分辨率。
2、X射線光譜學(xué)/熒光學(xué)
基于液態(tài)金屬射流源（MetalJet）的HAXPES-Lab
(a) 用于晶體管和二管制造的單氧化物結(jié)構(gòu) (b-f) 用HAXPES-Lab測(cè)量核心層。
3、X射線成像
相位對(duì)比成像
舉個(gè)簡單的例子，說明通過物體的相移如何擾動(dòng)波。波不能直接測(cè)量，但在這里轉(zhuǎn)換成段距離的強(qiáng)度變化。對(duì)比度來自吸收和相位。相移帶來的邊緣增強(qiáng)在所有輪廓上都很明顯。
關(guān)鍵詞：MetalJet液態(tài)金屬靶X射線源
遠(yuǎn)紅外高溫干燥箱(高溫500度)8401-3A
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技術(shù)參數(shù)：
型號(hào):8401-3A
工作尺寸:500＊600＊750 不銹鋼內(nèi)膽
工作電壓:380 更多詳細(xì)電熱恒溫鼓風(fēng)干燥箱DHG-9050型
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該產(chǎn)品供工礦企業(yè)、化驗(yàn)室、科研單位等作干燥、烘焙、熔蠟、滅菌之用。 更多詳細(xì)X射線應(yīng)力分析儀
主要規(guī)格：
X射線發(fā)生器：30KV（固定）、2～10mA連續(xù)可變
X射線管 Cr（標(biāo)準(zhǔn)）焦點(diǎn)尺寸 4×4mm2* Option Cu、Co、V
測(cè) 角 儀 更多詳細(xì)KRATOS X射線光電子能譜
對(duì)于半導(dǎo)體、金屬、高分子材料等廣泛的樣品，從宏觀分析、微觀分析、深度分析，
或從元素分析到狀態(tài)分析，都可做多方面評(píng)價(jià)的ESCA/Auger的復(fù)合表面分析裝置。
XPS靈敏度 11800Kc 更多詳細(xì)
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